Gebraucht SSE Maximus 804 #293651477 zu verkaufen

SSE Maximus 804 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine umfassende Lösung für eine Vielzahl von Anwendungen zur Photolithographie und Maskenherstellung bietet. Dieses System dient zur Übertragung von Schaltungsmustern auf ein Substrat oder einen Wafer bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen, gedruckten Schaltungen und anderen mikroelektronischen Bauelementen. Maximus 804 verwendet eine „traditionelle“ ultraviolette (UV) Photoresist-Einheit, d.h. es verwendet eine chemische Beschichtung, die für UV-Licht empfindlich ist, was dazu führt, dass bei der Belichtung mit UV-Licht ein Muster gebildet wird. Die Maschine verfügt über eine Vielzahl von Komponenten, um eine effiziente und genaue Musterübertragung zu gewährleisten. Es verfügt über einen Master-Tool-Controller, der für den Betrieb aller Komponenten verantwortlich ist, ein Ausrichtungsobjekt für die genaue Platzierung des Substrats für die Verarbeitung und eine Reihe von Photoresist-Optionen für verschiedene Anwendungen. Um das gewünschte Musterergebnis zu erhalten, muß eine genaue Ausrichtung von Maske und Substrat erreicht werden. Das Modell verwendet die Ausrichtungsausrüstung, um das Substrat genau zu positionieren. Das Alignment System ist in der Lage, mit einer Submikron-Genauigkeit durch eine Kombination aus einer digitalen Kameraeinheit und einem 4-Achsen-Roboterarm automatisch auszurichten. Die Maschine ist auch mit dem Photoresist Spray Tool ausgestattet, das eine speziell entwickelte Düse verwendet, um eine dünne und gleichmäßige Schicht aus Photolack auf das Substrat aufzubringen. Die Anlage verfügt über einen Photoresist-Lieferbereich von bis zu 24 Zoll und kann in einer Vielzahl von Substraten wie Quarz, Glas, Silizium und verschiedenen Metallen verwendet werden. Schließlich wird durch das UV-Belichtungsmodell ein Muster gebildet, das eine Laserquelle verwendet, mit der das Photolackmaterial ultraviolettem (UV) Licht ausgesetzt wird, was zur Bildung eines definierten Musters auf dem Substrat führt. Die UV-Belichtungsanlage ist in der Lage, Muster bis zu 36 Zoll Größe zu produzieren und bietet eine breite Palette von Belichtungsintensitäten für verschiedene Resistverarbeitungsbedingungen. Abschließend bietet SSE Maximus 804 eine umfassende Photolacklösung für eine Vielzahl von Anwendungen der Photolithographie und Maskenbildung. Es verfügt über einen modernen Satz von Komponenten wie ein Alignment System, Photoresist Spray Unit und eine UV-Belichtungsmaschine, alle in einem Werkzeug integriert, so dass es ein ideales Werkzeug für Photolithographie-Prozesse.