Gebraucht SSI 150 #9228957 zu verkaufen

SSI 150
Hersteller
SSI
Modell
150
ID: 9228957
Wafergröße: 6"
Coater track system, 6" With input cassette Oven Chill plate.
SSI 150 Photoresist ist ein halbautomatisches System, das eine zuverlässige und genaue Verarbeitung von Photoresist-Materialien ermöglicht. Photolackmaterialien sind eine Art Substrat, das bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und Bauelementen verwendet wird. 150 Arbeiten, indem zunächst das Photolackmaterial durch eine chemische Konditionierungskammer hindurchgelassen wird, gefolgt von der Verarbeitung sowohl der Ober- als auch der Unterseite des Substrats in getrennten Durchlaufprozessstufen. In der ersten Bearbeitungsstufe wird eine ultraviolette (UV) Lichtquelle aufgebracht, die das Photolackmaterial aktiviert und zur Weiterverarbeitung aufbereitet. Nachdem das Material mit UV-Licht belichtet wurde, wird ein Photolackstreifen, auch Photomaske genannt, zwischen dem Substrat und der Lichtquelle angeordnet. Diese Fotomaske wirkt wie eine Schablone, blockiert bestimmte Teile des Materials und belichtet andere, abhängig von seinen Eigenschaften. Nach dem Belichten des Substrats mit der Photomaske wird es dann zur weiteren Verarbeitung in einen Ofen gegeben. Nach Beaufschlagung mit dem Ofen durchläuft das Substrat einen Kühltunnel, wonach es in eine Entwicklungskammer gestürzt wird. Diese Kammer enthält eine Lösung, die speziell zum Lösen bestimmter Teile des belichteten Substrats ausgelegt ist. Auf diese Weise werden die auf dem Substrat verbleibenden Photolackschichten verfeinert und in die gewünschte Form integriert. Schließlich durchläuft das Substrat eine Spülkammer, in der eventuell verbleibende Rückstände der vorherigen Verarbeitung entfernt werden. Nach diesem Prozess ist das Photolacksubstrat für die Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und Geräten einsatzbereit. Die Photolackeinheit SSI 150 bietet einen präzisen und zuverlässigen Prozess für die Herstellung von mikroelektronischen Komponenten und Geräten. Diese Maschine stellt sicher, dass das Photolackmaterial seine gewünschte Form und Größe bei minimaler Verschwendung erreicht, was es im Vergleich zu manuellen Produktions- und Verarbeitungsmethoden sehr kostengünstig macht. Darüber hinaus stellt das Werkzeug sicher, dass alle Photolacksubstrate den Industriespezifikationen entsprechen, was zu einem konsistenten und zuverlässigen Produkt führt.
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