Gebraucht SSI 1A #9228956 zu verkaufen
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ID: 9228956
Wafergröße: 6"
Dual track coater system, 6"
With input cassette and input transfer.
SSI 1A ist eine Photoresist-Ausrüstung, die als industrielle Verarbeitungstechnik zur Herstellung und Herstellung von Leiterplatten verwendet wird. Es verwendet einen lichtempfindlichen Photoresistfilm, der wie ein mit Kupfer beschichtetes Substrat auf ein Substrat aufgebracht wird. Während des Herstellungsprozesses wird die Folie einer Lichtquelle, wie einer Leuchtdiode (LED) oder einer Quecksilberbogenlampe, ausgesetzt, was eine chemische Reaktion in der Folie bewirkt, die sie gegen einige Substanzen resistent macht, während andere in sie geätzt werden können. Das Photolacksystem arbeitet, indem es zunächst ein Photolackmaterial auf die Oberfläche der Platte aufbringt. Das Resistmaterial ist auf die Wellenlänge der Lichtquelle empfindlich, was eine chemische Reaktion hervorruft, die den Photoresist dort aushärten lässt, wo er der Lichtquelle ausgesetzt ist und dort weich bleibt, wo er unbelichtet ist. Anschließend wird die Platte mit einem Entwickler behandelt, der die nicht dem Licht ausgesetzten Teile des Photolacks entfernt. Dadurch bleibt nur der aushärtende Photolack in den Bereichen, die der Lichtquelle ausgesetzt waren. Im nächsten Verfahrensschritt werden ausgewählte Teile der Platte weggeätzt, die durch das dem Licht ausgesetzte Photolackmuster bestimmt werden. Beispielsweise ist es möglich, den Photolack über bestimmte Teile der Platine aufzubringen und zu härten, um eine Spur für die aufzubringenden elektrischen Bauelemente zu schaffen. Mit der Photoresist-Einheit kann mit Präzision und Detail weit über das mit manuellen Techniken erreichbare Maß hinaus geätzt werden. Nach dem Ätzen der Leiterplatte kann der Photolack mit einem starken Lösungsmittel entfernt oder sanft abgezogen werden. Nach dem Entfernen der Fotolackmaske wird häufig vor der Weiterverarbeitung eine Kupferbeschichtung wie Lötkomponenten zugegeben. Zusammenfassend ist 1A eine Photoresist-Maschine, die verwendet wird, um Leiterplatten durch Ätzen mit Präzision und Detail zu produzieren. Der lichtempfindliche Photoresistfilm wird auf die Oberfläche der Platte aufgebracht, dann einer Lichtquelle ausgesetzt, die ihn dort aushärten lässt, wo er belichtet wird und dort weich bleibt, wo er unbelichtet ist. Durch Manipulation der Lichtquelle kann ein Muster aus hartem Photolack auf der Platine erzeugt werden, das dann weggeätzt werden kann, um die notwendigen Spuren für die elektrischen Komponenten zu schaffen. Nach dem Ätzen und Entfernen des Photolacks ist die Platte bereit für die Weiterverarbeitung, wie Kupferplattierung und Lötkomponenten.
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