Gebraucht STEAG Cluster 421 #9136000 zu verkaufen

STEAG Cluster 421 ist eine Photolackausrüstung, die für die großvolumige, hochpräzise Herstellung von planaren und zylindrischen Linsen sowie optoelektronischen Bauteilen konzipiert ist. Es verwendet eine Expositionsressource, um verschiedene Typen von optischen Instrumenteneigenschaften und einen lithographischen Prozess zu simulieren, um verschiedene Strukturen auf einem Substrat zu erstellen. Cluster 421 bietet eine hervorragende Präzision mit einer Spotgröße von 50 mm (1,97 Zoll). Das Photolacksystem ist für eine Vielzahl von Substraten konzipiert, darunter amorphe und kristalline Materialien sowie alle Arten von Quarz-, Glas- und Kunststoffoberflächen. STEAG Cluster 421 unterstützt auch eine breite Palette von Substraten mit unterschiedlichen Oberflächenformen, so dass es ideal für komplexe optische Fertigung. Die Photolackeinheit umfasst einen Druckkopf, mit dem das Photolackmaterial auf das Substrat aufgebracht werden kann, sowie eine Entwicklermaschine, mit der das Photolackmaterial entwickelt werden kann. Das Entwicklerwerkzeug ist so konfiguriert, dass es mit hoher Entwicklungsgeschwindigkeit hochauflösende Ergebnisse liefert und somit für die Serienproduktion geeignet ist. Der Cluster 421 enthält auch Tools zur Steuerung der Belichtung und zur Entwicklung von Prozessen, die es Anwendern ermöglichen, das Photoresist-Asset an ihre spezifischen Bedürfnisse anzupassen. Benutzer können beispielsweise die richtige Expositionsressource auswählen, um sicherzustellen, dass die besten Ergebnisse erzielt werden. Das Photolackmodell hat auch die Fähigkeit, die Entwicklerlösungstemperatur zu steuern, was eine erhöhte Präzision im Entwicklungsprozess ermöglicht. Zusammenfassend ist STEAG Cluster 421 eine Photolackanlage, die speziell für die Serienfertigung optischer Bauelemente entwickelt wurde. Es bietet ausgezeichnete Präzision und Geschwindigkeit, und die Photolackmaterialien können auf eine Vielzahl von Substraten zugeschnitten werden. Darüber hinaus haben Anwender die Möglichkeit, die Belichtungs- und Entwicklungsprozesse zu kontrollieren und so die bestmöglichen Ergebnisse zu erzielen.