Gebraucht STEAG Marangoni #138851 zu verkaufen

ID: 138851
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1994
IPA Dryer, 6" Stand alone 1994 vintage.
STEAG Marangoni ist eine moderne Photoresist-Ausrüstung, die in Halbleiter-, MEMS und anderen mikroelektronischen Fertigungsverfahren eingesetzt wird. Es besteht aus einer speziellen sensibilisierenden Emulsion, die auf ein Substrat, typischerweise einen Siliziumwafer, aufgebracht wird, um es empfindlicher gegen Laserlichtbelichtung zu machen. Die Emulsion besteht aus einer wäßrigen Lösung einer organischen Base und photoaktiven Verbindungen enthaltenden Verbindungen. Wenn das Substrat Laserlicht ausgesetzt ist, dissoziieren diese Verbindungen rasch und bilden Radikale, die photochemische Reaktionen eingehen, und bilden einen Aluminiumoxidfilm auf dem Substrat. Das Marangoni Photoresist-System wurde entwickelt, um hervorragende Lithographieergebnisse mit außergewöhnlicher Genauigkeit und Konsistenz zu liefern. Die Dicke und Oberfläche des von der Einheit hergestellten Aluminiumoxidfilms sind sehr gleichmäßig und entsprechen eng der Substrattopographie. Diese Präzision beruht auf hochwertigen Antireflexbeschichtungen, die dem Substrat zugesetzt werden, sowie auf der hochgenauen Abscheidung der Photoresistemulsion. Neben hervorragenden lithographischen Ergebnissen verfügt STEAG Marangoni auch über eine hervorragende Haftung und thermische Stabilität. Die Haftung des Aluminiumoxidfilms auf dem Substrat ist hervorragend, so daß der Photoresistfilm fest verbunden bleibt. Die thermische Stabilität des Photolacks ermöglicht es, Temperaturen von bis zu 300℃ ohne nennenswerten Adhäsionsverlust auszuhalten. Marangoni Photolackwerkzeug kann in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden, einschließlich der Herstellung von Halbleiterbauelementen, MEMS-Bauelementen und anderen mikroelektronischen Bauelementen. Sie eignet sich besonders zur Herstellung von Halbleiterbauelementen mit hohen Aspektverhältnissen, wie Gräben, Nuten und Hohlräumen. Dank der hervorragenden Lithographieergebnisse und der hohen thermischen Stabilität ist es die ideale Wahl für mikroelektronische Fertigungsanwendungen, die Präzision und Zuverlässigkeit erfordern.
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