Gebraucht STEAG / MATTSON / AST Marangoni #9184982 zu verkaufen

Die Photoresistausrüstung STEAG/MATTSON/AST Marangoni ist eine Kombination aus chemischen Verfahren, mit denen mittels Photolithographie hochauflösende Bilder auf einem Substrat erzeugt werden. Die Photolithographie ist ein Verfahren zum Ätzen oder anderweitigen Übertragen der Form einer Maske auf ein darunter liegendes Substrat unter Verwendung von Licht. Das AST Marangoni-System führt dies mit einem lichtempfindlichen Resist aus. Der Resist wird üblicherweise als wäßrige Lösung von in flüssigem Medium suspendierten polymergroßen Molekülen zugeführt. Bei Belichtung werden die Moleküle vernetzt und bilden einen auf dem Substrat abgeschiedenen Polymerfilm. Dieser Film ist sehr resistent gegen chemische und physikalische Eigenschaften und kann ein Muster definieren. Die STEAG Marangoni-Einheit nutzt drei separate Stufen, von denen jede bei der Erstellung des zugrunde liegenden Musters die Bildauflösung maximieren kann. In der ersten Stufe wird eine Ätzlösung wie Flusssäure auf das Substrat aufgebracht. Diese Lösung arbeitet, um die Oberfläche des Substrats zu modifizieren und mikroskopische Gruben zu bilden. Diese erste Stufe liefert die notwendige Rauhigkeit für die anschließenden Photolithographieschritte. In der zweiten Stufe wird der Photolack auf das Substrat aufgebracht und fließen gelassen. Diese Stufe ist wichtig für die Erzeugung einer gleichmäßigen Schicht auf dem Substrat. MATTSON Marangoni Maschine verwendet eine Kombination aus Oberflächenspannung und Diffusion, um sicherzustellen, dass der Photolack vollständig auf dem Substrat haftet. In der Endstufe wird der Photolack mittels einer konfigurierten Maske dem Licht ausgesetzt. Hier wird der Photolack belichtet und reagiert mit dem Licht, um die Vernetzung der Moleküle zu initiieren. Das Marangoni-Tool verwendet eine Kombination aus hochauflösender Optik und computergesteuerten Ausrichtvorrichtungen, um sicherzustellen, dass die Maske richtig ausgerichtet ist. Nach Beendigung der Vernetzung bilden die vernetzten Moleküle eine gleichmäßige Schicht auf der Oberfläche. Dadurch bleibt das Muster aus der Maske erhalten und ergibt sich ein gleichmäßiges Bild auf dem darunterliegenden Substrat. Nach diesem Verfahren wird das Muster durch Naßätzen zur Entfernung des Photolacks in den unerwünschten Bereichen weiterentwickelt. STEAG/MATTSON/AST Marangoni Photoresist Asset ist eine hochspezialisierte und effektive Photolithographie-Technik, die zuverlässige und genaue Bilder auf einer breiten Palette von Substraten erzeugt. Es verwendet drei verschiedene Stufen, um eine gleichmäßige Schicht von Photolack auf der Oberfläche zu gewährleisten. Darüber hinaus verwendet es hochauflösende Optik, um sicherzustellen, dass die Maske richtig ausgerichtet ist. Dieses Modell hat sich als zuverlässige und effektive Photolithographie-Technik erwiesen und ist in der Elektronikindustrie weit verbreitet.