Gebraucht SUMITOMO SD-150SA #9153570 zu verkaufen

SUMITOMO SD-150SA ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von SUMITOMO Heavy Industries, Ltd. entwickelt und hergestellt wurde. Es ist ein System, das für die Verarbeitung und Beschichtung von Photolackmaterialien und anderen verwandten Produkten verwendet wird. SD-150SA verfügt über eine zweiachsige Servo-Plattform, die eine präzise Steuerung des Substrats ermöglicht. Es ist mit einer Präzisions-XY-Achse-Stufe ausgestattet, und die Einheit kann Substrate bis zu 570mm in der Größe verarbeiten. Die Maschine nutzt fortschrittliche Bildgebungstechnologie, die hochpräzise Bildaufnahme und -verarbeitung bietet, und das Fotolack-Bearbeitungswerkzeug ist mit benutzerfreundlicher Bedienung konzipiert und bietet hohe Durchsatzleistung. Die Anlage wurde entwickelt, um den Photoresist-Verbrauch zu reduzieren und verfügt über ein fortschrittliches automatisches Auffüllmodell, das den Photoresist-Tank von einem externen Nachfüllgerät nachfüllt und eine gleichbleibende Qualität und einen einheitlichen Photoresist-Fluss gewährleistet. Das Gerät verfügt außerdem über einen hochauflösenden Monitor, ein Bedienfeld und eine automatische Verstärkungs-/Schwellensteuerung zur präzisen Bilderfassung. Es kommt mit einer Reihe von Prozessoptionen, um die Systemsteuerung weiter zu verbessern, einschließlich einer flexiblen Belichtungszeitsteuerung, einer Photoresist-Konzentrationsanpassung und einem breiten Belichtungsdosisbereich. Das Gerät bietet auch eine automatisierte Maschinendiagnose und -wartung, die eine einfache und schnelle Werkzeugdiagnose und -reparatur ermöglicht. SUMITOMO SD-150SA ist ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich Halbleiterherstellung und Leiterplatten. Diese Ressource bietet eine kostengünstige, ökologische und leistungsstarke Verarbeitungslösung. Das Modell soll die Effizienz erhöhen und die Umweltbelastung reduzieren und entspricht den neuesten Umweltvorschriften. SD-150SA verfügt über verbesserte Funktionen, wie Temperaturregelung und Lasersteuerung, um eine qualitativ hochwertige Photoresist-Anwendung zu gewährleisten.