Gebraucht SVG 16233 #9397148 zu verkaufen

SVG 16233 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von der Specialty Verification Group (SVG) hergestellt und verkauft wird. Es handelt sich um ein zweikomponentiges, wasserbasiertes Photolacksystem, das für den Einsatz in Halbleiter- und Mikroelektronik-Anwendungen entwickelt wurde. Die Einheit stellt ein Verfahren zur Bildung dünner und gleichmäßiger Polymersperren über Wafern bereit. 16233 besteht aus zwei Komponenten: einem Sensibilisator und einem Resist. Der Sensibilisator ist eine Lösung von organischen Verbindungen, die auf die Oberfläche eines Substrats adsorbiert werden sollen, wie z.B. ein Siliziumwafer. Nach dem Auftragen eines Sensibilisators wird das Substrat einer Lichtquelle, typischerweise ultraviolettem Licht, ausgesetzt. Das Licht bewirkt eine chemische Reaktion und der Sensibilisator wird in eine polymere Struktur überführt, die in Standardlösungsmitteln unlöslich ist. Diese polymere Struktur wird als Resist bezeichnet. Der von der Photolackmaschine SVG 16233 gebildete Resist ist eine dünne und gleichmäßige Barriere über dem Wafer. Mit der dünnen Resistschicht können die dotierten Schichten des Wafers vor chemischem Ätzen geschützt werden. Der Resist dient auch als Maske bei Fertigungsprozessen und bietet gleichzeitig eine bessere topographische Kontrolle über strukturierte Schaltungen. Die durch den Resist gebildete Barriere kann auch eine sekundäre Oxidation verhindern, die beim Einsatz von Photolacksystemen mit dickeren Schichten auftritt. 16233 ist für den einfachen Einsatz in Photoresist-Anwendungen konzipiert. Die beiden Komponenten sind kompatibel mit Standard-Mikromaskiertechniken, und das Werkzeug kann durch automatisierte Spin-Coating aufgetragen werden. Zusätzlich sorgt die Anlage für eine gute Haftung zwischen dem Resist und dem Substrat, was ein zuverlässiges Abheben von Masken und Schaltungen ermöglicht. Das Modell ist auch bei hohen Temperaturen stabil und chemisch beständig gegen nachfolgende Verarbeitungsschritte. SVG 16233 ist eine einfache Photoresist-Ausrüstung, die sich für den Einsatz in verschiedenen Halbleiter- und Nanofabrikationsprozessen eignet. Das System besteht aus zwei Komponenten, die einfach anzuwenden sind und einen konsistenten Resist auf Kohlenstoffbasis liefern. Die dünne Resistschicht kann bei Herstellungsprozessen eine gute Haftung und topographische Kontrolle gewährleisten und gleichzeitig Wafer vor Oxidation und Ätzen schützen.