Gebraucht SVG 8028-P0 #9396690 zu verkaufen

SVG 8028-P0 ist ein Photoresist-Gerät, das eine ultraviolette Lichtquelle verwendet, um einen Hauptbestandteil des Photoresist-Systems zu bilden. Bei 8028-P0 wird eine Schicht aus organischem Material dem ultravioletten Licht ausgesetzt, was eine Reaktion namens Photopolymerisation hervorruft. Bei der Photopolymerisation polymerisiert das belichtete Material zu einem harten, festen Film. Diese Schicht aus hartem, festem Film dient als elektrostatische Maske, die ein Ätzen ungeschützter Bereiche während des Lithographievorgangs verhindert. SVG 8028-P0 Photoresist-Einheit ist eine positive Ton-, hochauflösende Maschine. Es hat einen breiten Spektralbereich, der seine Ätzcharakteristik und -auflösung verbessert. Es hat auch eine hohe Haftung auf Substraten und eine hohe Beständigkeit gegen Säuren und starke Oxidationsmittel. 8028-P0 ermöglicht die Herstellung von Mustern auf Silizium, Metall und anderen Substraten. Es hat ausgezeichnete Ätzeigenschaften und erzeugt Muster mit scharfen Kanten und hoher Auflösung. Darüber hinaus ist es ein umweltfreundliches Produkt, da es keine Gefahrstoffe enthält. SVG 8028-P0 ist einfach zu bedienen und hat eine kurze Aushärtezeit. Seine Vorbelichtungs- und Nachbelichtungsvorgänge sind einfach und dauern nur wenige Minuten. Sein Nachbelichtungszeitbereich von 20 Sekunden bis 2 Minuten und 30 Sekunden ermöglicht eine flexible Strukturierung. 8028-P0 Photoresist-Tool eignet sich für eine breite Palette von Anwendungen wie photolithographische Schaltungsmuster, MEMS (mikro-elektromechanische Systeme) Strukturierung und Dickschichtmuster. Es wird auch bei der Herstellung von Solarzellen und anderen elektronischen Komponenten verwendet. Insgesamt ist SVG 8028-P0 Photoresist eine zuverlässige, effiziente und wirtschaftliche Möglichkeit, Muster auf einer Vielzahl von Substraten herzustellen. Es bietet hochauflösende Muster und scharfe Kanten mit einer breiten Palette von Lichtquellen. Seine umweltfreundliche Natur und Benutzerfreundlichkeit macht es zu einer idealen Wahl für mikroelektronische und andere photolithographische Musterungen.