Gebraucht SVG 81 #9302570 zu verkaufen

SVG 81 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um die Leistung einer Vielzahl von Produktionsprozessen zu ermöglichen. Das System wurde speziell entwickelt, um das Ätzen, Planarisieren und Graben zwischen Halbleiterwafermaterialien wie Silizium, Galliumarsenid, Wolfram und Polysilizium zu ermöglichen. 81 arbeitet, indem eine Photolackschicht auf einer Oberfläche einer schnellen UV-Strahlung ausgesetzt wird, die von einer hochspezialisierten Lichtquelle erzeugt wird. Diese UV-Strahlung dient dazu, chemische Veränderungen im Molekül des Photolacks zu bewirken, wodurch Schichten unterschiedlicher Dicke aufgebaut werden können, um das gewünschte Muster auf der Oberfläche zu erreichen. Nach Einwirkung der UV-Strahlung wird der Wafer in die Ätzkammer übertragen, wo ein entsprechendes Ätzmittel zur Entfernung des weniger vernetzten Materials verwendet wird. Nach der Erzeugung des gewünschten Musters wird in einem Trockenreinigungsschritt nach dem Ätzen Rückstände oder Partikel aus dem Ätzvorgang entfernt. Die SVG 81-Einheit bietet auch die Möglichkeit, eine Planarisierungsschicht auf dem belichteten Wafer abzuscheiden, um eine gleichmäßigere Oberfläche zu erhalten. Dies ermöglicht die Erzeugung von glatteren Oberflächen und zuverlässigeren Geräten. Darüber hinaus ermöglicht 81 das Erreichen von Löchern oder Gräben unterschiedlicher Größe und Form, basierend auf der aufgebrachten ultravioletten Strahlungsintensität. SVG 81 Maschine besteht aus mehreren Hauptkomponenten. Dazu gehören die Photokathoden-Stromversorgung, die Lichtquelle, das bildgebende Werkzeug und die Umgebungssteuerung. Die Photokathoden-Stromversorgung dient als Stromquelle für die spezielle ultraviolette Strahlung, die zur Erzeugung des Photoresist-Musters benötigt wird. Die Lichtquelle dient zur Versorgung der benötigten UV-Strahlung, während das bildgebende Gut die Gleichmäßigkeit des Musters über den gesamten Wafer steuert. Schließlich werden die Umgebungskontrollen auf Temperatur und Dichte eingestellt. 81 Modell hat mehrere Vorteile. Die Ausrüstung ist zuverlässig, kostengünstig und energieeffizient. Darüber hinaus ist der Prozess nicht aufdringlich, was bedeutet, dass er den anderen Prozessen wie Ätzen und Planarisieren nicht abnimmt. Schließlich ist SVG 81 mit einer breiten Palette von Wafermaterialien kompatibel, was es zu einem weit verbreiteten System macht.