Gebraucht SVG 8126 #9123208 zu verkaufen

SVG 8126 ist eine kommerzielle Photoresist-Ausrüstung. Es ist ein speziell entwickeltes System aus Acrylatmaterialien und für eine Vielzahl von photolithographischen Anforderungen konzipiert. Die Einheit besteht aus einer Reihe von Komponenten, wie Photolack, Photomaske und Entwickler. Photoresist ist ein Produkt, das verwendet wird, um Muster auf einem Substrat zu erzeugen, indem die Belichtung mit einer Lichtquelle selektiv blockiert wird. Der mit 8126-Maschine verwendete Photolack ist ein kostengünstiges Material auf Acrylatbasis, das eine erhöhte Auflösung und Erträge geätzter Produkte ermöglicht. Der Widerstand des Photolacks ist einstellbar, so dass Designer den gewünschten Effekt erzielen können. Die Photomaske ist eine transparente Materialfolie, mit der bestimmte Bereiche des Substrats während des photolithographischen Prozesses gegen Belichtung blockiert werden. Die Fotomaske mit SVG 8126 Werkzeug ist aus Hochübertragungsmaterial und verfügt über einen hohen Bildkontrast und Auflösung. Der Entwickler (zusammen mit der Photomaske) wird zur Bildung der Photolackschicht auf dem Substrat verwendet. Der Entwickler mit 8126 Asset ist ein chemischer Entwickler, der hilft, die Resistschicht zu schaffen, indem das Acrylatmaterial im Photoresist aktiviert wird. Das photolithographische Verfahren selbst ist eine Reihe von Schritten, die mit der Vorbehandlung des Substrats (d.h. des zu strukturierenden Materials) beginnen. Dazu gehört das gezielte Ätzen des Substrats, um es für den nächsten Schritt vorzubereiten. Anschließend wird der Photolack (zusammen mit dem Entwickler) über das Substrat aufgebracht. Danach wird die Photolackschicht mittels des Photomaskenmusters mit Licht belichtet. Nach dem Aushärten wird die Photolackschicht unlöslich, so dass sie ein Muster auf dem Substrat erzeugen kann. Schließlich wird das Substrat entsprechend den in der Photolackschicht eingestellten Konstruktionsmustern geätzt. SVG 8126 Modell ist sehr gelobt für seine konsistenten Ergebnisse und hohe Genauigkeit. Sein Photolack auf Acrylatbasis bietet hervorragende Haft- und Hafteigenschaften. Die Photomaske bietet hohe Übertragungsraten und hervorragenden Bildkontrast. Sein chemischer Entwickler sorgt für ein gleichmäßiges und vollständiges Muster auf dem Substrat. Insgesamt verspricht die Ausrüstung konsistente Ergebnisse, die hohen Standards entsprechen.