Gebraucht SVG 8126 #9132286 zu verkaufen

SVG 8126 ist ein von Shipley Company, Inc. Es ist ein Industriestandard vakuumkanalisierter Photoresist, der in der Photolithographie als Schutzschicht während eines Ätz- oder Plattierungsvorgangs verwendet wird. Die einzigartigen Eigenschaften von 8126 helfen, die gewünschte Form des Resistmusters auf dem Substrat zu schaffen. SVG 8126 hat eine hohe Viskosität, was für die Herstellung genauer Muster auf Substraten von Vorteil ist. Außerdem ist der Resist in alkalischen Lösungen unlöslich und widersteht dem Ätzen. Dies macht es für Anwendungen geeignet, die eine Beständigkeit gegen hohe Temperaturen oder Ätzprozesse erfordern, einschließlich Tiefenwinkel oder kritische Linienbelastung. Der Resist besteht aus Polycycloocten (PCT) als Basismaterial, das hervorragende Haft- und Chemikalienbeständigkeitseigenschaften liefert und ideal für hochfeste Ätz- und Beschichtungsprozesse eignet. 8126 ist ein flüssiges Einkapselungsmittel vorgesehen, das eine Schutzbarriere zwischen Resist und Substrat bildet. Dies gilt insbesondere bei Tiefenwinkel und kritischer Linienbelichtung. SVG 8126 kann auf ein oder mehrere Substrate in einem Temperaturbereich von 100 ° C bis 250 ° C aufgebracht werden. Der Resist kann entweder durch UV-Belichtung oder durch Temperatur gehärtet werden. Dies macht es für eine Reihe von Anwendungen geeignet, einschließlich Vias, Mikroschaltungen und nichtdirektionales Ätzen. Der Resist kann sowohl chemisch als auch mechanisch leicht entfernt werden. Die chemische Entfernung verwendet eine Schwefel- oder Salzsäurelösung, während die mechanische Entfernung ein inertes Schleifmittel wie Sand oder Glasperlen verwendet. Schließlich muß der Resist in einem gründlichen Spülschritt vom Substrat entfernt werden. Zusammenfassend ist 8126 ein Industriestandard vakuumkanalisierter Photolack, der für den Einsatz in hochohmigen Photolithographieverfahren entwickelt wurde. Es hat ausgezeichnete Haftung und chemische Beständigkeit Eigenschaften. Es kann einem Temperaturbereich und entweder mit UV-Licht oder durch Temperatur ausgesetzt werden. Der Resist ist sowohl chemisch als auch mechanisch leicht zu entfernen und eignet sich für Anwendungen, die eine Beständigkeit gegen hohe Temperaturen oder Ätzprozesse erfordern.