Gebraucht SVG 8132 #9123207 zu verkaufen

SVG 8132 ist ein Trockenfilm-Photoresist der nächsten Generation für Mikrofabrikation und Lithographie. Es wurde entwickelt, um eine fortschrittliche Definition bereitzustellen, flexibel und robust genug für verschiedene lithographische Prozesse zu sein und wirtschaftlich genug für eine optimale Photolithographie-Leistung zu sein. 8132 wurde entwickelt, um eine robuste und präzise Substratausrichtung, Musterdefinition und hochauflösende Bildgebung ohne Kompromisse zu gewährleisten. Es ist ein extrem zuverlässiges und zuverlässiges Photolacksystem, das eine ausgezeichnete Bildgebungsgenauigkeit und eine ausgezeichnete Substratgleichförmigkeit gewährleistet. Darüber hinaus wurde SVG 8132 entwickelt, um eine Vielzahl von Materialien und Fertigungstechniken zu unterstützen. 8132 ist entweder in einer absorbierenden oder einer dickeren und weniger saugfähigen Resist-Formulierung erhältlich, die eine komplizierte Mikrofertigung und ultrahochauflösende Bildgebung ermöglicht. Diese Resistformulierungen gewährleisten eine hohe Photoresistabdeckung während der gesamten Prozesse. Darüber hinaus soll es einen möglichst hohen Kontrast und eine möglichst hohe Auflösung bieten und hohe Temperaturen und aggressive Ätzbedingungen überstehen können. Darüber hinaus machen die überlegenen Ätzwiderstandsfähigkeiten von SVG 8132 es zu einer attraktiven Wahl für hohe Seitenverhältnisse. Zusätzlich beseitigt die Photolackeinheit Beschichtungsfehler, was sie für CMOS (komplementäre Metalloxid-Halbleiterstrukturen) geeignet macht. Darüber hinaus wurde berichtet, dass die Resist-Maschine eine hervorragende Kratz- und Patch-Beständigkeit für verschiedene Metalle bietet. 8132 bietet aufgrund seiner höheren Gleichmäßigkeit und schnelleren Abbildungsreihenfolge auch überlegene Substrate im Vergleich zu Nassfilm-Photoresists. Darüber hinaus eignet es sich aufgrund seiner überlegenen Lichtempfindlichkeit für mehrere lithographische Belichtungen. Zuletzt wurde SVG 8132 entwickelt, um eine hervorragende Adhäsionsleistung zu bieten, die eine optimale Wafer-Sauberkeit und gleichmäßige Schichtabdeckung ermöglicht. Abschließend ist 8132 ein Photoresist-Tool der nächsten Generation, das für eine Vielzahl von Mikrofabrikations- und Lithographieanwendungen geeignet ist. Es bietet eine hervorragende Definition, Einheitlichkeit und Kontrast, während es anspruchsvolle Ätzbedingungen übersteht und mit einer breiten Palette von Materialien kompatibel ist. Darüber hinaus ist es so konzipiert, dass es zuverlässig und wirtschaftlich genug für eine optimale Photolithographie-Leistung ist.