Gebraucht SVG 86 #9181739 zu verkaufen

SVG 86 ist eine „Photoresist“ -Ausrüstung für den Einsatz in der Konstruktion und Herstellung von lithographischen Mikrochips. Es handelt sich um ein zweischichtiges Filmsystem; die erste Schicht ist ein Photoresist, der empfindlicher auf Belichtung von hochenergetischen Lichtquellen wie Ultraviolett (UV) oder Deep-Ultraviolett (DUV) ist. Die zweite Schicht ist eine Antireflexionsschicht (AR), die dazu beiträgt, durch Reflexionen verursachte Verzerrungen zu reduzieren oder zu beseitigen. 86 Einheit besteht aus einer speziellen Kombination von Polymeren Photoresists. Diese Kombination bildet eine komplexe Resistmaschine mit überlegener Haftung auf dem Substrat und hoher Auflösung. Die Kombination erhöht nicht nur die Auflösung des Bildes, sondern reduziert auch seine Empfindlichkeit gegenüber Größen wie Feuchtigkeit, Temperatur und chemischer Umgebung, die während des lithographischen Prozesses häufig vorhanden sind. Das SVG 86-Tool wurde für die Strukturierung fortschrittlicher mikroelektronischer Geräte optimiert. Als solches verwendet es eine Kombination aus screenfähigen positiven und negativen Resists, um die höchste Auflösung bei der niedrigsten Empfindlichkeit und Reflexion zu erhalten. 86 Photoresist Asset eignet sich für eine Vielzahl von Belichtungsquellen, einschließlich ArF Excimer Laser und DUV Excimer Quellen. Der Hauptvorteil des SVG 86-Modells ist, dass seine hohe Auflösung und geringe Empfindlichkeit auch in Gegenwart von Umwelt- und physikalischen Variablen wie Feuchtigkeit, Temperatur und chemischer Umgebung beibehalten werden. Dies liegt an den besonderen Eigenschaften der Kombination der in der Ausrüstung verwendeten Resists. Zusätzlich bietet 86 im Vergleich zu anderen Resists eine verbesserte Haftung des Resists auf dem Substrat sowie eine verbesserte Haftung der strukturierten Metallschicht. SVG 86-System hat auch die Fähigkeit, einheitliche Dünnschichtprofile mit geringen Eigenschaftshöhen und geringer CD-Variation zu produzieren. Die Einheitlichkeit hilft, konsistente Strukturen auf nanoskaliger Ebene zu schaffen. Die verbesserte Haftung der Resistschicht auf dem Substrat trägt dazu bei, die Gefahr von Abplatzungen, Schälen oder Rissen während der nächsten Strukturierungsstufe zu verringern. Darüber hinaus können 86 Geräte auch für anspruchsvolle „Stepper“ -Anwendungen eingesetzt werden, die eine hochauflösende Bildgebung bei hohen dielektrischen Werten erfordern. Die strukturierte Schicht kann optimiert werden, um den Fluß der beleuchteten Fläche zu erhöhen und gleichzeitig schärfere Merkmale und eine bessere Strukturierung zu ermöglichen. Insgesamt ist SVG 86 eine hochentwickelte Photoresist-Maschine, die entwickelt wurde, um präzise lithographische Mikroschaltungen mit ausgezeichneter Haftung auf dem Substrat und mit feinen Eigenschaften und hoher Auflösung zu produzieren. Durch die Kombination hochkomplexer Polymere ist 86 eine zuverlässige und kostengünstige Bereicherung für die Herstellung kleiner und hochauflösender elektronischer Geräte.