Gebraucht SVG 8626 PC #293598282 zu verkaufen

SVG 8626 PC ist eine Photoresist-Ausrüstung für die hochauflösende Strukturierung von dünnen Filmen. Dieses System arbeitet mit einer Markentechnologie namens Dry Film Imaging (DFI), die einen Fotolackfilm mit sehr hoher Auflösung und geringer Umweltbelastung verwendet. Diese Einheit ist mit einem vakuumbasierten Laminator, einer Siebstation und einer thermisch gesteuerten Vakuumkammer ausgestattet. Mit dem Vakuumbasislaminator wird ein flüssiger Photolack auf Dünnschichtsubstrate aufgebracht. Dies geschieht durch gleichzeitiges Anlegen von Vakuum und Druck für gleichmäßiges Aufbringen und gleichmäßige Abdeckung des Substrats. Der Photoresistfilm wird dann ultraviolettem Licht ausgesetzt und je nach Intensität des belichteten Lichts in der Entwicklungslösung entweder löslich oder unlöslich. Dieses Muster wird dann auf das Substrat übertragen. Die Siebstation schafft die komplizierte, hochauflösende Musterung, die 8626 PC-Maschine so effektiv macht. Über das Substrat wird eine mit einem dünnen Film aus lichtempfindlicher Emulsion unterlegte Abschirmplatte gelegt. Eine Maskierungsplatte wird dann verwendet, um komplizierte Formen und Designs auf der Folie zu erzeugen. Das Panel kann auf verschiedene Ebenen eingestellt werden, wodurch der Benutzer die Kontrolle über die Auflösung und Details in seinem Design erhält. Die Vakuumkammer arbeitet mit den anderen Komponenten des Werkzeugs zusammen, um überlegene Ergebnisse zu erzielen. Diese Kammer ist so konzipiert, dass sie eine optimale thermische Umgebung für eine optimale Aushärtung des Fotolackfilms bietet. Die Kammer kann einen Vakuumdruck von bis zu 10-4 mmHg und eine Temperatur zwischen -40 ° C und + 175 ° C aufrechterhalten. Dadurch wird sichergestellt, dass das Designmuster präzise übertragen und bis zur Perfektion ausgehärtet wird. Schließlich wird Schaltkreise mit dem letzten Schritt des SVG 8626 PC Asset erstellt. Dies ist ein Verfahren, bei dem Materialien wie Kupfer, Nickel, Palladium und andere Legierungen auf dem Dünnschichtsubstrat abgeschieden werden, wodurch das gewünschte Muster entsteht. Dies kann entweder durch galvanische Beschichtung oder durch chemische Aufdampfung erreicht werden. Zusammenfassend ist 8626 PC ein Photoresist-Modell für die hochauflösende Strukturierung von dünnen Filmen. Es ist mit einem vakuumbasierten Laminator, einer Siebstation und einer thermisch gesteuerten Vakuumkammer ausgestattet, um ein- bis mehrschichtige Strukturierungsdesigns mit Genauigkeit und Präzision zu erzeugen. Das Gerät bietet eine hervorragende Auflösung und Umweltfreundlichkeit, so dass Benutzer komplizierte Designs aus Dünnschichtsubstraten effizient und kostengünstig erstellen können.