Gebraucht SVG 8632 #9255090 zu verkaufen

SVG 8632 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von Shipley, einem auf Fotowiderstand spezialisierten Unternehmen, entwickelt wurde. Es ist eine Art Maskentechnologie, die verwendet wird, um Muster auf Halbleiteroberflächen zu erzeugen. Es ist speziell für Hochleistungs-Lithographieverfahren konzipiert, die sehr dünne Schichten aus Resistmaterial erfordern. Es eignet sich auch zur Herstellung sehr kleiner Merkmalsgrößen auf extrem dünnen Wafern. Das Photolacksystem besteht aus zwei entscheidenden Komponenten - einer Photolackschicht und einer darunterliegenden Hartbackschicht. Die Photolackschicht ist lichtempfindlich und wird als Musterschicht verwendet. Es besteht aus einem polymeren Material, wie Polymethylmethacrylat, Polyethylenimin oder einem Gemisch davon, das eine photoaktive Verbindung enthält. Die hartgebackene Schicht ist typischerweise eine dünne Oxidschicht, wie Siliziumoxid oder Boroxid, die als Trägerschicht und Diffusionsbarriere wirkt. Bei der Photolackeinheit 8632 wird eine Maske verwendet, um die Belichtung der Photolackschicht zu steuern und die Oberfläche zu strukturieren. Zur Erzeugung eines Musters an der gewünschten Stelle wird die Maske einer Lichtquelle ausgesetzt und der belichtete Bereich interagiert mit der photoaktiven Verbindung in der Photoresistschicht. Diese Wechselwirkung ermöglicht eine chemische Reaktion und bewirkt, dass der belichtete Bereich verhärtet und unlöslich wird. Die hartgebackene Schicht verhindert, dass die chemische Reaktion an anderer Stelle auf dem Wafer stattfindet. SVG 8632 Photoresist Maschine ist in der Lage, extrem kleine Merkmalsgrößen auf dem Wafer zu produzieren. Darüber hinaus bietet es eine hohe Genauigkeit und Auflösung beim Strukturieren einer Waferoberfläche. Zudem sorgt es durch sein hochzuverlässiges und gut definiertes Bearbeitungsfenster für hohe Prozesskonsistenz. Darüber hinaus hat es niedrige Betriebskosten. Insgesamt ist 8632 Photoresist-Tool eine ideale Wahl für Hochleistungs-Lithographie-Prozesse. Es ist eine zuverlässige, genaue und einfach zu bedienende Maskentechnologie, die sehr kleine Funktionsgrößen und ausgezeichnete Prozesskonsistenz erzeugt. Es hat niedrige Betriebskosten und eignet sich gut für den Einsatz in der Halbleiterindustrie.