Gebraucht SVG 8632 #9396691 zu verkaufen

SVG 8632 ist ein Photoresist-System, das für optische Lithographie-Prozesse, speziell für 28nm Bildgebung und feinere verwendet wird. Es besteht aus einem positiven Ton imaginierbaren, direkt schreibenden proprietären organischen Sol-Gel-Resist und einem auf Lösungsmittel basierenden positiven Tonentwickler. Die photoaktive Komponente des Resists ist in Gegenwart von EUV- und Deep-UV-Strahlung robust, so dass der Resist sehr kurzwelliger Strahlung zur Feinauflösung ausgesetzt werden kann. Der Resist selbst besteht aus einem nichtionischen Polymer und einem heterocyclischen Triderivat, das bei Beschichtung auf dem Wafer ein hochwertiges Bildmuster bilden kann. Ein Großteil der konventionelleren säurekatalysierten Resiststoffe ist in ihrem Widerstand gegenüber bestimmten Schadstoffarten wie Großmolekülen oder Dioxiden begrenzt. Der Sol-Gel-Resist von 8632 ist jedoch sehr widerstandsfähig gegen solche Schadstoffe, wodurch der Resist sehr langlebig ist und hervorragende Abbildungseigenschaften ermöglicht. Um den Resist SVG 8632 Entwickler zu entwickeln, wird verwendet. Sie basiert auf einer organischen Aminverbindung, die nach Aktivierung auf die Sol-Gel-belichteten Resistbereiche einwirken kann, um die belichteten Teile zu entfernen und die unbelichteten Bereiche zurückzulassen. Dieses Verfahren ermöglichte eine feine, genaue Strukturierung des Wafers. 8632 ist ein ausgezeichnetes Resist-System, das mit hochauflösenden Prozessen entworfen wurde. Seine einzigartige Sol-Gel-Resistzusammensetzung ermöglicht eine hochempfindliche und genaue Abbildung von Merkmalsgrößen bis zu 28 nm und darüber hinaus, viel besser als reguläre lithographische Resiststoffe. Darüber hinaus macht die Robustheit gegenüber Luft und Schadstoffverunreinigungen den Resist sehr langlebig und für eine hohe Serienproduktion geeignet.