Gebraucht SVG 88 Series #9033562 zu verkaufen
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ID: 9033562
Track system, 6"
Wafer: 6" glass
Wafer dual Track, 6"
Wafer flow: Left to Right
Transport wafer: ATS arm
Software have 99 process program capability with up to 9 event per program
Can "link" two or more programs together to create longer programs
Intergrades components exercise for system maintenance
Real time displaying motor speed
Capable to save or re-stored recipe and option data into CPU flash when CPU need repair
Auto calibration HPO wafer carrier motor
Full "2-way" diagnostics
Full range of programmable options
All modules grounded to Copper bar ground 1” X ¼” X 80”, “Copper bar ground” grounded to facility ground discharge static, clean signal
Coater Process: Moving/pivoting arm dispense with (3) dispense capability
Developer process: Moving dispense arm with 2 sprays, 2 stream nozzle, Air ring, top rinse and back side rinse
Track 1: Send-Vapor Prime-Chill-Coat-bake-Chill-Receive
Track 2: Send-Bake-Chill-Develop-Bake-Chill-Receive
Track 3: Send-Send - Coat-Bake - Receive-Receive
Track 4: Send-Send - Coat-Bake - Receive-Receive
Indexer Assembly:
Banner wafer sensor or Capacitive sensor
Grey Teflon coat platform
3/16" or 1/4" pitch (for 25 or 20 wafer cassettes)
Coater Assembly:
Moving/pivoting dispense assembly with 3 dispense capability
Peek material wafer chuck
Top EBR
Bottom EBR
Top, bottom EBR, catch cup rinse, tub fill (fill Pre-dispense cup by option select timing to prevent dispense nozzle dry off at home position, idle mode)
Upgraded Centering unit with dual cylinder shaft
Digital pressure (vacuum) switch
Sub-micron servo motor using brushless motor with Pacific Scientific controller max 6500 RPM +/-1 RPM no need calibration
Flat finder, wafer run smooth at high speed
Upgraded Stepper motor up/down 3 position Assy. for Spindle replace 3 position cylinder more stable, reliable
1 upgrade Cybor pump /each track
1 five gallon canister for EBR
1 five gallon canister for CCR
1 three gallon canister for Tub fill
CKD valve replacement for high cost, obsolete valve for Spindle valve assembly
Catch cup Assembly is easily removable, cleanable, also catch cup have the catch cup rinse assembly, clean itself by option select to set catch cup wash wafer count, catch cup wash time interval
Tub fill pre-dispense cup by option select fill solvent to the cup by timing prevent nozzle dry off when track at idle position, option select purge the dispense nozzle clean the tip itself before process, amount is equal amount to real process
High purity Teflon tubing for fluid line, dispense line
High level sensor for coater drain jar work with software
Low level sensor for Photo Resist bottle work with software
Low level sensor for EBR canister work with software
Developer Assembly:
Moving dispense arm Assembly with 2 spray, 2 stream nozzle
Peek material wafer chuck
Sub-micron servo motor using brushless motor with Pacific Scientific controller Max 6500RPM +/-1RPM no need calibration
Top rinse and backside rinse and air ring
Three way Teflon valve for DI water return for top rinse prevent particle build up
Digital vacuum switch
Upgraded Stepper motor up/down 3 position Assy. for Spindle replace 3 position cylinder
Flat finder, wafer run smooth at high speed
Cooling jacket for Developer fluid line,
CKD valve replacement for high cost, obsolete valve for Spindle valve assembly
Vapor Prime Assembly:
Stainless steel exhaust
Contact or proximity control bake with lid up
Vacuum or HMDS bake with lid down
All Teflon dispense lines
Pressure canister for HMDS
Hard clear anodized lid
Digital pressure (vacuum switch)
Cast-in heat element 450 W
Capable of operating at temperature ranging from 50 degree C to 400 degree C in dehydration bake cycle and to 200 degree C in vapor prime cycle
RTD temperature probe with 0.1 degree C increment readout
Remote digital temperature controller
Watlow EZ zone controller
Dual digital LED display
Auto tuning, +/-0.1% calibration accuracy
PID control-no drift or shifting
Temperature uniformity under +/- 2 degree C
Hot Plate Oven Assembly:
Stainless steel exhaust
Hard clear anodized HPO block
Three pin wafer lift assembly
HPO block with side-mounted vacuum port-guaranteed no leak
Contact or proximity control bake
Cast-in heater elements 450W
Watlow EZ zone Temperature controller
Dual digital LED display
Auto tuning, ±0.1% calibration accuracy
PID control – no drift or shifting
Temperature uniformity under ±2°C
RTD temperature probe with 0.1°C increment readout
HPO temperature range from 50°C to 400°C
Digital pressure (vacuum) switch
Remote digital temperature controller
Chill Plate Assembly:
Hard clear anodized chill plate
Three pin wafer lift assembly
Digital pressure (vacuum) switch
Power: 208VAC, 3 phase, 60Hz.
SVG 88 Series Photoresist ist eine spezialisierte Ausrüstung von SVG America für den Einsatz in der Druckindustrie. Das System wurde entwickelt, um zuverlässige, langlebige und präzise abgeschiedene Beschichtungen von Photolackmaterialien auf Substraten wie Papier, Tuch, Film, Folie, flexiblen Substraten und mehr bereitzustellen. Die Photolackeinheit 88 besteht aus einem auswechselbaren Düsenapplikator, einem Controller mit eingebauter Mustererzeugungseinheit und einer Plattform, die die genauen erforderlichen Mengen an Photolack abgeben kann. Die Maschine ist in der Lage, sowohl einschichtige als auch mehrschichtige Beschichtungen zu erzeugen. Der Applikator verwendet statische Elektrizität, um das Photolackmaterial abzuscheiden und kann mit Präzision eingestellt werden, um sicherzustellen, dass eine gleichmäßige Schicht auf dem Substrat abgeschieden wird. SVG 88 Serie Photoresist-Tool ist so konzipiert, dass es sehr zuverlässig und langlebig ist. Die Anlage ist für den Einsatz in rauen Umgebungen zertifiziert und kann in einer Vielzahl von Industriesektoren sicher eingesetzt werden. Das Modell wurde entwickelt, um jedes Mal genaue Ergebnisse zu liefern und nutzt fortschrittliche Software, um die Substrattemperatur konsistent zu halten. Das Gerät ist auch in der Lage, eine breite Palette von Mustern zu produzieren, so dass es als praktikable Ergänzung zu einer Vielzahl von Druckanwendungen verwendet werden. Mit dem System ist es möglich, mehrere Kopien von Bildern zu replizieren oder einfach ein- oder mehrschichtige Abdeckung anzuwenden. Die Einheit ist auch in der Lage, eine präzise Erfassung von Mustern zu erreichen, was bedeutet, dass beim Verlegen des Resists keine Überlappung auftritt. 88 Serie Photoresist Maschine ist auch mit einer benutzerfreundlichen Schnittstelle im Auge entworfen. Das Werkzeug kann einfach eingestellt und gesteuert werden, ohne dass komplexe Einstellungen erforderlich sind. Das Asset ist in der Lage, eine Vielzahl von Mustern zu erstellen, so dass Benutzer die Einstellungen leicht anpassen können, um optimale Ergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus ist das Modell vollautomatisiert, was einen effizienten Betrieb ermöglicht, und es ist in der Lage, sich selbst zu kalibrieren, um die Genauigkeit zu verbessern. Abschließend ist die Photolackausrüstung der SVG 88 Serie ein zuverlässiges, langlebiges System, das für eine Vielzahl von Druckanwendungen entwickelt wurde. Das Gerät ist so konzipiert, dass es präzise und wiederholbare Beschichtungen liefert und für einen effizienten Betrieb vollständig automatisiert ist. Die Maschine ist in der Lage, eine breite Palette von Mustern zu erstellen und ist auch benutzerfreundlich ohne komplexe Einstellungen erforderlich.
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