Gebraucht SVG 88 Series #9033562 zu verkaufen

SVG 88 Series
Hersteller
SVG
Modell
88 Series
ID: 9033562
Track system, 6" Wafer: 6" glass Wafer dual Track, 6" Wafer flow: Left to Right Transport wafer: ATS arm Software have 99 process program capability with up to 9 event per program Can "link" two or more programs together to create longer programs Intergrades components exercise for system maintenance Real time displaying motor speed Capable to save or re-stored recipe and option data into CPU flash when CPU need repair Auto calibration HPO wafer carrier motor Full "2-way" diagnostics Full range of programmable options All modules grounded to Copper bar ground 1” X ¼” X 80”, “Copper bar ground” grounded to facility ground discharge static, clean signal Coater Process: Moving/pivoting arm dispense with (3) dispense capability Developer process: Moving dispense arm with 2 sprays, 2 stream nozzle, Air ring, top rinse and back side rinse Track 1: Send-Vapor Prime-Chill-Coat-bake-Chill-Receive Track 2: Send-Bake-Chill-Develop-Bake-Chill-Receive Track 3: Send-Send - Coat-Bake - Receive-Receive Track 4: Send-Send - Coat-Bake - Receive-Receive Indexer Assembly: Banner wafer sensor or Capacitive sensor Grey Teflon coat platform 3/16" or 1/4" pitch (for 25 or 20 wafer cassettes) Coater Assembly: Moving/pivoting dispense assembly with 3 dispense capability Peek material wafer chuck Top EBR Bottom EBR Top, bottom EBR, catch cup rinse, tub fill (fill Pre-dispense cup by option select timing to prevent dispense nozzle dry off at home position, idle mode) Upgraded Centering unit with dual cylinder shaft Digital pressure (vacuum) switch Sub-micron servo motor using brushless motor with Pacific Scientific controller max 6500 RPM +/-1 RPM no need calibration Flat finder, wafer run smooth at high speed Upgraded Stepper motor up/down 3 position Assy. for Spindle replace 3 position cylinder more stable, reliable 1 upgrade Cybor pump /each track 1 five gallon canister for EBR 1 five gallon canister for CCR 1 three gallon canister for Tub fill CKD valve replacement for high cost, obsolete valve for Spindle valve assembly Catch cup Assembly is easily removable, cleanable, also catch cup have the catch cup rinse assembly, clean itself by option select to set catch cup wash wafer count, catch cup wash time interval Tub fill pre-dispense cup by option select fill solvent to the cup by timing prevent nozzle dry off when track at idle position, option select purge the dispense nozzle clean the tip itself before process, amount is equal amount to real process High purity Teflon tubing for fluid line, dispense line High level sensor for coater drain jar work with software Low level sensor for Photo Resist bottle work with software Low level sensor for EBR canister work with software Developer Assembly: Moving dispense arm Assembly with 2 spray, 2 stream nozzle Peek material wafer chuck Sub-micron servo motor using brushless motor with Pacific Scientific controller Max 6500RPM +/-1RPM no need calibration Top rinse and backside rinse and air ring Three way Teflon valve for DI water return for top rinse prevent particle build up Digital vacuum switch Upgraded Stepper motor up/down 3 position Assy. for Spindle replace 3 position cylinder Flat finder, wafer run smooth at high speed Cooling jacket for Developer fluid line, CKD valve replacement for high cost, obsolete valve for Spindle valve assembly Vapor Prime Assembly: Stainless steel exhaust Contact or proximity control bake with lid up Vacuum or HMDS bake with lid down All Teflon dispense lines Pressure canister for HMDS Hard clear anodized lid Digital pressure (vacuum switch) Cast-in heat element 450 W Capable of operating at temperature ranging from 50 degree C to 400 degree C in dehydration bake cycle and to 200 degree C in vapor prime cycle RTD temperature probe with 0.1 degree C increment readout Remote digital temperature controller Watlow EZ zone controller Dual digital LED display Auto tuning, +/-0.1% calibration accuracy PID control-no drift or shifting Temperature uniformity under +/- 2 degree C Hot Plate Oven Assembly: Stainless steel exhaust Hard clear anodized HPO block Three pin wafer lift assembly HPO block with side-mounted vacuum port-guaranteed no leak Contact or proximity control bake Cast-in heater elements 450W Watlow EZ zone Temperature controller Dual digital LED display Auto tuning, ±0.1% calibration accuracy PID control – no drift or shifting Temperature uniformity under ±2°C RTD temperature probe with 0.1°C increment readout HPO temperature range from 50°C to 400°C Digital pressure (vacuum) switch Remote digital temperature controller Chill Plate Assembly: Hard clear anodized chill plate Three pin wafer lift assembly Digital pressure (vacuum) switch Power: 208VAC, 3 phase, 60Hz.
SVG 88 Series Photoresist ist eine spezialisierte Ausrüstung von SVG America für den Einsatz in der Druckindustrie. Das System wurde entwickelt, um zuverlässige, langlebige und präzise abgeschiedene Beschichtungen von Photolackmaterialien auf Substraten wie Papier, Tuch, Film, Folie, flexiblen Substraten und mehr bereitzustellen. Die Photolackeinheit 88 besteht aus einem auswechselbaren Düsenapplikator, einem Controller mit eingebauter Mustererzeugungseinheit und einer Plattform, die die genauen erforderlichen Mengen an Photolack abgeben kann. Die Maschine ist in der Lage, sowohl einschichtige als auch mehrschichtige Beschichtungen zu erzeugen. Der Applikator verwendet statische Elektrizität, um das Photolackmaterial abzuscheiden und kann mit Präzision eingestellt werden, um sicherzustellen, dass eine gleichmäßige Schicht auf dem Substrat abgeschieden wird. SVG 88 Serie Photoresist-Tool ist so konzipiert, dass es sehr zuverlässig und langlebig ist. Die Anlage ist für den Einsatz in rauen Umgebungen zertifiziert und kann in einer Vielzahl von Industriesektoren sicher eingesetzt werden. Das Modell wurde entwickelt, um jedes Mal genaue Ergebnisse zu liefern und nutzt fortschrittliche Software, um die Substrattemperatur konsistent zu halten. Das Gerät ist auch in der Lage, eine breite Palette von Mustern zu produzieren, so dass es als praktikable Ergänzung zu einer Vielzahl von Druckanwendungen verwendet werden. Mit dem System ist es möglich, mehrere Kopien von Bildern zu replizieren oder einfach ein- oder mehrschichtige Abdeckung anzuwenden. Die Einheit ist auch in der Lage, eine präzise Erfassung von Mustern zu erreichen, was bedeutet, dass beim Verlegen des Resists keine Überlappung auftritt. 88 Serie Photoresist Maschine ist auch mit einer benutzerfreundlichen Schnittstelle im Auge entworfen. Das Werkzeug kann einfach eingestellt und gesteuert werden, ohne dass komplexe Einstellungen erforderlich sind. Das Asset ist in der Lage, eine Vielzahl von Mustern zu erstellen, so dass Benutzer die Einstellungen leicht anpassen können, um optimale Ergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus ist das Modell vollautomatisiert, was einen effizienten Betrieb ermöglicht, und es ist in der Lage, sich selbst zu kalibrieren, um die Genauigkeit zu verbessern. Abschließend ist die Photolackausrüstung der SVG 88 Serie ein zuverlässiges, langlebiges System, das für eine Vielzahl von Druckanwendungen entwickelt wurde. Das Gerät ist so konzipiert, dass es präzise und wiederholbare Beschichtungen liefert und für einen effizienten Betrieb vollständig automatisiert ist. Die Maschine ist in der Lage, eine breite Palette von Mustern zu erstellen und ist auch benutzerfreundlich ohne komplexe Einstellungen erforderlich.
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