Gebraucht SVG 8800 #1220 zu verkaufen

SVG 8800 Photoresist Equipment ist ein lithographisches Werkzeug, das in der Extrem Ultraviolett (EUV) Lithographie verwendet wird. Das System ist präzise, effizient und kostengünstig und ermöglicht einen höheren Durchsatz bei geringeren Kosten. Es ist in der Lage, fortschrittliche Musterfunktionen in lithographischen Prozessen mit EUV-Licht zu schaffen. Das Gerät umfasst das Scan und Stepper Modul, das in der Lage ist, hochauflösende Funktionen auf Wafern mit Präzisionsgenauigkeit zu erstellen und gleichzeitig Zeit und Kosten zu reduzieren. Dies gelingt mit seinem ultraschnellen Scan- und Schrittmechanismus, der eine Vielzahl von optischen Leistungsstufen bewältigen kann. Eines der innovativsten Merkmale der Maschine ist ihr fortschrittliches mehrschichtiges Folienabscheidungsmodul, das es ermöglicht, Mikroskalierungsmerkmale auf der Waferoberfläche zu erzeugen. Das mehrschichtige Abscheidungswerkzeug erzeugt eine exakte Dicke von Materialschichten für eine präzisere Strukturierung. Das Asset ist auch in der Lage, Ultradünnfilm-Abscheidung, die Muster mit kleinen Funktionsgrößen erstellen können. Neben dem Scan- und Schrittaspekt des Modells umfasst 8800 auch eine Substrataufbereitungsstufe und eine Reinraumumumgebung. Die Substrataufbereitungsstufe dient der Reinigung und chemischen Verarbeitung des Substrats für Resiststoffe und Beschichtungen, während die Reinraumumumgebung eine kontrollierte Umgebung für die lithographische Belichtung bietet. Dies ist ein wichtiger Schritt im lithographischen Prozess, da es hilft, die qualitativ hochwertigsten EUV-Musterergebnisse zu gewährleisten. SVG 8800 Photoresist Equipment enthält auch eine hohe Genauigkeit Ausrichtung Service. So können Wafer und Substrate schnell und präzise auf den Bühnen des Systems positioniert werden. Das Gerät umfasst auch fortgeschrittene Inspektionssysteme, um die Genauigkeit der von der Maschine erzeugten Muster zu messen und zu überprüfen. Insgesamt ist 8800 Photoresist Tool ein leistungsfähiges und effizientes lithografisches Werkzeug für EUV-Prozesse. Es bietet präzise, kostengünstige Lithographie mit einem breiten Anwendungsspektrum und einen hohen Durchsatz für hochwertige Ergebnisse. Die Substratvorbereitung und die Reinraumumumgebung der Anlage gewährleisten eine hochwertige Strukturierung und ihre Ausrichtungs- und Inspektionsdienste helfen, die Genauigkeit und Integrität der erstellten Muster zu erhalten.