Gebraucht SVG 8800 #9094408 zu verkaufen

Hersteller
SVG
Modell
8800
ID: 9094408
Wafergröße: 6"
Developer system, 6" Chemical cabinet Alarm box Developer 21/22.
SVG 8800 ist eine Photolackausrüstung, die sowohl für die Photolithographie als auch für das Ätzen integrierter Schaltungen (ICs) verwendet wird. Es ist ein vielseitiges Werkzeug für die Verarbeitung von Materialien wie polymeren, organischen, Metall- und Verbundwerkstoffen. Als höherwertiges Photolithographiesystem wird 8800 für fortschrittliche Prozessanforderungen und kritische Geräteherstellung mit hoher Präzision eingesetzt. SVG 8800 besteht aus einem Immersionsscanner, einer Strahlquelle, einem digitalen Mustergenerator und einer Bildaufnahme oder einer erweiterten optischen Konfiguration. Der Immersionsscanner bietet eine Reihe von Scan-Feldern zur Unterstützung von IC-Auflösungen bis zu 50 nm. Es verwendet eine hohe numerische Apertur (NA) von 1,35 und eine speziell entwickelte Maskenplatte, um eine erhöhte Prozessbreite zu liefern. Die Strahlquelle besteht aus einem gepulsten Excimerlaser, einer Strahlformungseinheit und einer Frequenz, die Nd:YVO4 Laser verdoppelt wird, der bei einer Wellenlänge von 532 nm emittiert. Es bietet eine Auswahl an Wellenlänge, Fokus und Impulsenergie, um Photomasken mit hoher Tiefenschärfe genau zu belichten. Der digitale Mustergenerator ist eine automatisierte Maschine, die die Schaltungsentwurfsanwendungsdaten genau in für die Strahlquelle benötigte präzise Druckparameter übersetzt. Dadurch kann die Substratbelichtung für eine Vielzahl von Materialien und Prozessen optimiert werden. Die Bildaufnahme und erweiterte optische Konfiguration erfasst hochauflösende Bilder vom Substrat vor und nach dem Drucken. Es führt auch Muster kritisch für Schicht (CTL) Messungen, Stichmessungen und Kanalcharakteristiken. Zusammenfassend ist 8800 ein fortschrittliches Photolithographie-Tool, das hervorragende Leistung für die Verarbeitung und Bildgebung bietet. Es verfügt über eine Reihe von Funktionen wie eine höhere numerische Apertur, Impulsenergiesteuerung, automatisierter Mustergenerator und hochauflösende Bildaufnahme. Kombiniert ermöglichen diese eine präzise Verarbeitung für die IC-Fertigung bis zu 50 nm Auflösungen.
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