Gebraucht SVG 8820 #293749266 zu verkaufen

SVG 8820 ist ein Photoresist-System, das zuverlässige Lithographie-Prozesse bei der Herstellung von integrierten Schaltungen (IC) ermöglicht. Es ist ein Positiv-Ton Deep-UV-Resist, der für Doppelmuster-Ansätze wie Self-Aligned Double Patterning (SADP) und Pitch Split Double Patterning (PSC) optimiert ist. Es hat sich als ein wesentliches Werkzeug zur Senkung der Kosten für die Erstellung kleiner Funktionsgrößen für ICs erwiesen. Im Kern des 8820-Systems befinden sich die Photolackmaterialien. Dabei handelt es sich um flüssige Photoresists, die in einem dünnen, gleichförmigen Film auf eine Halbleiterscheibe aufgebracht werden sollen. Bei Belichtung mit Lichtquellen wie UV-Lasern erfährt der Photoresist eine chemische Reaktion, die ihn in einer Entwicklerlösung unlöslich macht. Diese selektive Unlöslichkeit ermöglicht die Entwicklung lithographischer Strukturen. SVG 8820 ist für den Einsatz mit 193 nm Tauchlithographiewerkzeugen optimiert. Es ist sowohl mit einfachen als auch mit doppelten Musteransätzen kompatibel. Seine tiefe UV-Absorption ermöglicht eine höhere Auflösung als herkömmliche Photoresists und sorgt für die Belichtung von tiefen UV-Wellenlängen sowohl in Einzel- als auch in Doppelmusterprozessen. Zusätzlich sorgt die Absorptionsfähigkeit von 8820 für eine bessere Rauheit der Linienkante und verringerte topographische und linienseitige Effekte. Darüber hinaus weist SVG 8820 eine höhere Empfindlichkeit als herkömmliche Photoresists auf, was höhere Durchsätze belichteter Wafer pro Tag ermöglicht. Seine Löslichkeit in einer Entwicklerlösung ermöglicht eine schnelle Nachbelichtung. Es arbeitet auch gut mit bedruckbaren Farben für Wafer-Level-Schrumpf, was dieses System besonders vorteilhaft für die Skalierung des Lithographieverfahrens für einen größeren Bereich von Wafergrößen macht. 8820 ist für den Einsatz in fortschrittlichen Lithographieverfahren für die anspruchsvollsten Prozesse in der Chipherstellung konzipiert. Seine hohe Auflösung und Empfindlichkeit macht es zu einer idealen Wahl für doppelt gemusterte IC-Geräte, und seine Löslichkeit in einem Entwickler ermöglicht einen schnellen Prozess, der es zu einer attraktiven Wahl für die großflächige Waferproduktion macht.