Gebraucht SVG 8832 / 8836 #9033927 zu verkaufen

SVG 8832/8836 ist eine Photolackausrüstung, die speziell für den Plasmaätzprozess in der Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Es ist ein niedermolekulares, auf Polyvinylacetat basierendes Photoresistsystem, das dem Ätzen von Oberflächen sowohl in nassen als auch in trockenen Ätzumgebungen widersteht. Es hat eine hohe Toleranz für Ionenbeschuss, so dass es in Prozessen wie Reaktivionenätzen und mechanischem Fräsen verwendet werden kann. 8832/8836 Einheit besteht aus drei verschiedenen Schichten. Die erste Schicht ist eine Photolackschicht, bei der es sich um einen Film aus lichtempfindlichem Material handelt, der einer Lichtquelle ausgesetzt ist. Sie enthält lichtempfindliche Moleküle, die auf die Belichtung reagieren, indem sie belichtete und unbelichtete Bereiche innerhalb des Films bilden. Die unbelichteten Bereiche sind chemisch ätzbeständig, während die exponierten Bereiche anfälliger für Ätzungen sind. Die zweite Schicht ist ein Abdeckpolymer, das die Photolackschicht an die Oberfläche des Wafers bindet. Sie dient auch dazu, ein Wegätzen von Photoresist durch Ionenbeschuss und reaktives Ätzen zu verhindern. Die dritte Schicht ist eine Nachbelichtungsbackschicht, die ein dünner Schutzfilm aus Siliziumoxid ist. Diese Schicht wird durch Belichtung mit der Lichtquelle gebildet und dient dem Schutz des Fotolacks bei der Verarbeitung. SVG 8832/8836 Maschine wurde erfolgreich in der Herstellung von fortschrittlichen Halbleiterbauelementen wie Mikroprozessoren und DRAMs eingesetzt. Es bietet einen hohen Schutz der darunter liegenden Schichten vor thermischen, chemischen und Strahlungsschäden. Darüber hinaus ist es ein kostengünstiges Photolackwerkzeug und daher für Massenproduktionsanwendungen geeignet. 8832/8836 Asset bietet eine ausgezeichnete Entlastung der Musterfunktionen bis auf 0,35 µm. Es ist auch mit anderen Hilfsstoffen verträglich, wie Stripplösungsmittel und O2-basiertes Dry Strip. Darüber hinaus ist es über einen weiten Bereich von Verarbeitungstemperaturen von -25 ° C bis + 150 ° C hochstabil. Insgesamt ist das Photolackmodell SVG 8832/8836 eine ideale Lösung für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Es bietet ausgezeichneten Schutz vor Ätz-, thermischen, chemischen und Strahlenschäden; hat eine ausgezeichnete Auflösung von Mustern bis zu 0,35 µm; und ist über einen weiten Bereich von Verarbeitungstemperaturen hochstabil. Darüber hinaus ist es eine kostengünstige Lösung, die für die Massenproduktion geeignet ist.