Gebraucht SVG 8832 #293667132 zu verkaufen

SVG 8832
Hersteller
SVG
Modell
8832
ID: 293667132
Wafergröße: 6"
Developer, 6" Dual track.
SVG 8832 ist ein von SVG Chemicals entwickeltes Hochleistungs-Photolacksystem. Es handelt sich um eine Art chemisch-mechanisches Polieren (CMP) -Resist, das für den Einsatz in Halbleiterherstellungsprozessen wie Planarisierung oder Polieren von Leiterbahnen und dielektrischen Schichten niedriger k formuliert ist. Die Chemie basiert auf funktionellen Epoxidmonomeren, die zu einer vernetzbaren Folie polymerisiert werden, die dann mit einem Spin-Coat-System auf ein Substrat aufgebracht wird. Nach dem Schleudern wird die Folie mit UV oder sichtbarem Licht belichtet, was die Vernetzung der polymerisierten Folie bewirkt. Dadurch kann der Resist bei der Verarbeitung in CMP-Systemen selektiv entfernt werden. 8832 hat eine geringe Auflösungsrate und zeigt eine ausgezeichnete Stabilität in CMP-Schlämmen. Außerdem weist sie eine geringe Schrumpfrate auf, die insbesondere für Durchsiliziumanwendungen (TSV) von Vorteil ist. SVG 8832 Resists zeichnen sich auch durch eine gute Haftung auf Kupfer und anderen Metallen aus und sind sowohl mit O2- als auch H2-Plasmaprozessen kompatibel, was eine schnellere und zuverlässigere Nachpolierbehandlung ermöglicht. Darüber hinaus sind 8832 Resiststoffe aufgrund ihrer geringen Photobleaching-Eigenschaften bei Sonneneinstrahlung und ihrer geringen Flüchtigkeit umweltfreundlich und sicher zu bearbeiten. Dies macht sie ideal für den Einsatz in Prozessschritten, die Trocken- oder Nassätzprozesse erfordern. Darüber hinaus können sie in einer Vielzahl von Temperaturbereichen eingesetzt werden, so dass sie in verschiedenen Anwendungen eingesetzt werden können. Abschließend ist SVG 8832 ein gut abgerundetes Photoresist-System, das Exzellenz in CMP-Prozessen bietet und gleichzeitig vollständig mit einer Vielzahl von Arbeitsumgebungen kompatibel bleibt. Seine geringe Schrumpfrate macht es besonders geeignet für Durchsilizium über Anwendungen, während seine niedrige Auflösungsrate und ausgezeichnete Stabilität in CMP-Aufschlämmungen gewährleisten, dass es eine Reihe von Chemikalien und Substratschutzbedürfnisse passt.
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