Gebraucht SVG 90 #293615917 zu verkaufen

SVG 90 ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die vom Halbleiterhersteller Shin-Etsu Chemical Corporation entwickelt wurde. Das System besteht aus einem lithographischen Beschichtungsverfahren und einer strukturierten Photomaske. Es ist ein Werkzeug zur Erstellung komplizierter Designs mit hochauflösender Bildgebung für fortgeschrittene Halbleiterstrukturen. 90 besteht aus einer für ultraviolettes Licht empfindlichen Photolackschicht und einer Photomaske. Die Fotomaske ist eine dünne Folie aus Kunststoff oder Glas, die mit einem Muster aus fotografischem Film beschichtet ist. Dieses Muster blockiert bestimmte Teile des ultravioletten Lichts und erzeugt ein Muster, mit dem eine Resistschicht auf dem Substrat erzeugt werden kann. Die Photolackschicht wird auf das Substrat aufgebracht und anschließend Substrat und Maske mit ultraviolettem Licht belichtet. Die Fotomaske wirkt als Schablone, wobei nur die Bereiche, die ihrem Muster entsprechen, dem ultravioletten Licht ausgesetzt werden können. Das Licht bewirkt eine Reaktion im Photolack, der dann mit dem Substrat reagiert und durch Ätzen oder chemisches Waschen entfernt wird. SVG 90-Einheit ist in der Lage, Submikron-Auflösungen zu produzieren, die sehr feine, komplizierte Designs ermöglichen. Darüber hinaus ist es sehr zuverlässig und hat eine ausgezeichnete thermische Stabilität. Dadurch ist eine hohe Ätzfestigkeit gewährleistet und für verschiedene Herstellungsverfahren geeignet. Diese Eigenschaften machen 90 Maschine für viele Arten von fortgeschrittenen Halbleiterstrukturen geeignet. Es wird am häufigsten bei der Herstellung von MEMS (mikroelektroidmechanischen Systemen) und auch bei der Herstellung von nanoskaligen Strukturen verwendet. Darüber hinaus ist SVG 90 Prozess kostengünstig, reduziert die Umweltbelastung und hat eine hohe Genauigkeit. Es erhöht die Ausbeute des Produktionsprozesses und ermöglicht höhere Durchsätze, was die Kosten erheblich senken kann. Abschließend ist 90 ein fortschrittliches Photoresist-Tool, das von der Shin-Etsu Chemical Corporation entwickelt wurde. Es besteht aus einem lithographischen Beschichtungsverfahren und strukturierter Photomaske. Diese Anlage ist sehr zuverlässig und produziert Submikron-Auflösungen. Es eignet sich für viele Arten von fortgeschrittenen Halbleiterstrukturen, ist kostengünstig und reduziert die Umweltbelastung.