Gebraucht SVG 90 #9085777 zu verkaufen

Hersteller
SVG
Modell
90
ID: 9085777
Wafergröße: 6"
(2) Coater / (2) Developer system, 6".
SVG 90 ist eine anspruchsvolle Photoresist-Ausrüstung, die aus modernster Technologie für den Einsatz mit fortschrittlicher Photolithographie abgeleitet ist. Es wurde entwickelt, um komplexe Strukturen sicher und präzise auf eine Reihe von Substraten wie und Glas, Silizium und Verbindungen zu strukturieren. Das System verwendet einen hochauflösenden UV-Laser, gesteuert durch ein All-in-One-Softwarepaket, das präzise arbeitet, um mikroskopische Formen und Muster zu erzeugen. Das Gerät nutzt ein revolutionäres chemiefreies, vektoriertes Ätzverfahren, bekannt als Laser Induced Image Generation (LIIG). Durch dieses Verfahren entfällt das traditionelle chemische Ätzen mit einem eigenen Speicher aus Widerstandsmaterial und schädlichen Gasen. Dadurch ist das Produkt effizient und kostengünstig für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich der Herstellung von Halbleiterbauelementen, MEMS und Sensoren. 90 verfügt über eine vollautomatische Photolackmaschine und bietet eine hohe Wiederholbarkeit und Konsistenz im Betrieb. Es hat eine Plattformgröße von SVG 90 mm und kann Stücke bis 200 mm Durchmesser verarbeiten. Eine Vielzahl von Filmformaten ist verfügbar, um bestimmte Anwendungen anzupassen, und das Werkzeug kann den Film leicht neu positionieren, um die Mustergröße zu ändern. Darüber hinaus bietet das Gerät eine automatische motorisierte Ausrichtung und ein hervorragendes Auflösungshandling für die Produktion von hochwertigen Mustern. Das Gerät ist mit einer optimierten Beleuchtungseinrichtung ausgestattet, die aus Oberwinkellampen besteht, die eine gleichmäßige Belichtung gewährleisten. Es verfügt auch über eine automatische Kalibrierung, um Belichtungszeit und Beleuchtungsniveau für jeden einzelnen Schuss automatisch anzupassen, was die Genauigkeit von Mustern ohne zusätzliche manuelle Anpassungen verbessert. Darüber hinaus sorgt eine Quarzkammer mit strukturierten Oberflächenreflektoren und einem UV-Filter für einen höheren Wirkungsgrad bei der Belichtungssteuerung. Zusammenfassend ist 90 ein hochentwickeltes Photolackmodell, das für die effiziente und kostengünstige Herstellung komplexer Strukturen in einer Reihe von Substraten entwickelt wurde. Die automatisierten Operationen, die präzise Laserbelichtung und die optimierte Beleuchtungsausrüstung ermöglichen es, Muster zuverlässig mit ausgezeichneter Genauigkeit und Wiederholgenauigkeit zu erzeugen. Darüber hinaus wird sein vektorierter Ätzprozess und sein chemiefreier Betrieb für Operationen bevorzugt, die feine und komplizierte Formen erfordern.
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