Gebraucht SVG 90S #9316333 zu verkaufen

SVG 90S ist eine Photoresist-Ausrüstung, die in der Chemie und elektronischen Industrie weit verbreitet ist, um mikroskopische Muster auf Substrate zu ätzen. SVG steht für aufgedampften Kohlenstoff, der eine Art Dünnschichtmaterial ist. Dieses Material kann durch einen Spin-on-Prozess auf ein Substrat aufgebracht werden, was es zu einer großartigen Option für komplizierte, hochauflösende Muster macht. SVG 90-S steht für 90 Sekunden, das ist die typische Zeitspanne, die für die Entwicklung des Musters benötigt wird. 90 S Verfahren arbeitet durch Spinnen eines Substrats auf eine rotierende Platte, die bereits mit einem dünnen Film aus SVG-Material beschichtet wurde. Dadurch entsteht eine gleichmäßige Beschichtung, die dann einer UV-Lichtquelle ausgesetzt wird. Dabei werden die gewünschten Muster auf das Substrat geätzt. Nach der 90-Sekunden-Belichtung wird das Substrat mit Lösungsmitteln oder einem Sauerstoffplasma gewaschen, um eventuell zurückbleibende Rückstände aus dem Musterentwicklungsprozess zu entfernen. 90S System hat mehrere Vorteile gegenüber anderen Photoresist-Systemen. Erstens ist es in der Lage, komplizierte Muster mit einer Auflösung von bis zu 1 Mikron zu erstellen. Zweitens ist es sehr einfach zu bedienen und erfordert nur einen einfachen Spin-on-Prozess, um SVG-Material anzuwenden. Auch die schnelle Belichtungszeit von 90 Sekunden macht es eine gute Wahl für Rapid Prototyping. Schließlich ist die SVG 90 S-Einheit relativ kostengünstig, da die Hauptkosten in der Anschaffung von SVG-Material, der UV-Lichtquelle und den Lösungsmitteln liegen. Darüber hinaus kann 90-S Maschine wiederverwendet werden, was langfristig Geld spart, da SVG-Material nicht zwischen den Anwendungen ausgetauscht werden muss. Insgesamt ist SVG 90S Photoresist-Tool eine gute Wahl für diejenigen, die schnell und kostengünstig hochauflösende Muster erstellen müssen. Seine Benutzerfreundlichkeit und Wiederverwendbarkeit machen es gut geeignet für jede Anwendung, die das Ätzen von komplizierten Mustern erfordert.