Gebraucht SVG / ASML 90 #9070809 zu verkaufen

Hersteller
SVG / ASML
Modell
90
ID: 9070809
Wafergröße: 8"
Track system, 8" Wafer: notched (5) Vacuum Bake Ovens (1) Vapor Prime Oven (1) Chill Plates (12) Stations, interfaced (7) Serial arms Facilities location: through the floor Coater and developer direct floor drains with exhausted drain box IRS rotators and platforms (1) Coater: Photoresist Temperature Control Air Temp / Humidity Control (2) FAS / Millipore model 250 pumps w/ programming pendant 100cc TEBR Millipore unfiltered pump (2) 100cc BEBR Millipore unfiltered pumps (1) 25cc Millipore unfiltered WCDS pump and controller for Track Adhesion Promoter SVG 25cc Millipore unfiltered pump Dispense line OD (nozzle tip = 3/8² for Lines # 1.2; = 1/8² for Line # 3) SVG Pumps and controllers (1) SS non-coated 3 gallon un-pressurized vessel with 4 liquid level sensors (2) Developers: Air Temp / Humidity controller High flow (2 stream) nozzles and dual chemistry developer fluid dispensing system (2) Stainless Steel Tefzel coated, 3 gallon pressurized canisters with 4 liquid level sensors 0-60 psi canister gauges Degasifier on Develop lines Floor: solid SS spill containment with overflow sensors Control Module integrated on end station MCE on IES SECS I/II interface Power Requirements 208 volts, 3-phase, star, 60 Hz.
SVG/ASML 90 ist eine Photolackausrüstung, die bei der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet wird. Es besteht aus einem Vakuumabtastsystem mit fortschrittlicher mehrstufiger Gate-Technologie, Laserabtastbelichtung und computergesteuerter Verarbeitung. Diese Einheit ist ideal für die hohe Präzision und dichte Steuerung, die bei der Herstellung von feinen Linienmustern erforderlich ist, die typischerweise in der fortschrittlichen Halbleiterproduktion vorkommen. SVG 90 Scanmaschine verwendet einen seriellen Strahl, um gleichmäßige Belichtungen mit minimalem Schussrauschen zu erreichen. Das Werkzeug kann mit Geschwindigkeiten von bis zu 1000 Linien/Sekunde laufen, und die Balkengröße kann von 6 bis 15 µm reichen. Das Stage Asset kann die Form mit einer maximalen Geschwindigkeit von 25 mm/s von der Exposition in die Entwicklung verschieben und bietet einen berührungslosen Übergang mit hoher Positionsgenauigkeit und Wiederholbarkeit von 10 Mikrometern. Die computergesteuerten Scan- und Belichtungsparameter des Modells ermöglichen eine präzise Steuerung des Musterprozesses. ASML 90 verwendet ein Laserscanning-Belichtungsgerät mit variabler Laserleistung und Punktgröße. Die Belichtungszeit ist mit Flexibilität programmierbar, um den Prozessanforderungen des Kunden gerecht zu werden. Dem System folgt dann ein programmierbarer Entwicklungsprozess, der für Gleichmäßigkeit sorgt und mit fortschrittlicher Bildstrahlverarbeitungstechnologie ausgestattet ist, um wiedergewonnene Retikel vorzuqualifizieren. Schließlich werden die bearbeiteten Retikel einem automatisierten Sortiervorgang unterzogen. Die Kombination aus fortschrittlichen Scan-, Belichtungs- und Verarbeitungsfunktionen der 90er Jahre bietet ein Maß an Kontrolle und Genauigkeit, das es ideal für die Herstellung von hochpräzisen Mustern und feinen Linienmerkmalen macht. Die Flexibilität des Geräts ermöglicht verschiedene Belichtungsoptionen, erweiterte Prozessparameter und verbesserte Qualitätskontrollprogramme. Die intuitive benutzerfreundliche Benutzeroberfläche von SVG/ASML 90 ermöglicht die einfache Integration in bestehende Produktionslinien und ermöglicht es Ingenieuren, ihre Einstellungen schnell anzuzeigen und auf die besten Ergebnisse einzustellen. Der hohe Durchsatz und die Genauigkeit von SVG 90 machen es zu einer großen Wahl für Halbleiterproduktionsanwendungen.
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