Gebraucht SVG / ASML 90 #9298643 zu verkaufen
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SVG/ASML 90 ist eine High-End-Photoresist-Ausrüstung, die von SVG (Advanced Semiconductor Materials Lithography) entwickelt und entworfen wurde. Dieses System wurde 1990 eingeführt und wird verwendet, um extrem präzise und genaue Strukturen auf Mikroebene zu schaffen. Die Photoresist-Einheit verwendet licht- und lichtempfindliche Chemikalien (Photoresists), um Muster auf dem Wafer zu erzeugen. Diese Maschine verwendet einen 193nm KrF Excimerlaser mit einer numerischen Apertur von 0,75, um einen Lichtstrahl zu emittieren, der in mehrere Laserstreifen unterteilt ist. Mit diesem Lichtstrahl wird dann eine lichtempfindliche Chemikalie (der Photoresist) belichtet, die über den Wafer verteilt ist. Der Photolack wird dann wie ein Magnet zu Eisen auf ausgewählte Bereiche des Wafers oder Substrats angezogen und bildet ein Muster auf der Oberfläche. SVG 90-Werkzeug ermöglicht eine hohe Auflösung, hohe Geschwindigkeit und ausgezeichnete optische Leistung für die Herstellung von Halbleiterchips. Es hat eine strukturierende Belichtungszeit zwischen 14 und 18ms, abhängig von der Belichtungsfeldgröße. Es verwendet ein steiles Kantenprofil mit einer Auflösung von bis zu 0,17 µm Linien/Leerzeichen und hat eine Überlagerungsgenauigkeit von +/-2nm. Das Modell kann Wafer bis 200 mm Durchmesser mit einem hohen Durchsatz von 45 bis 70 Wafern pro Stunde handhaben. Es hat auch eine vertikale und horizontale Ausrichtung Ausrüstung, die Ausrichtungsgenauigkeit von +/-7,1nm in der Vertikalen und +/-3,9nm in der Horizontalen gewährleistet. Darüber hinaus verfügt es über ein ausgeklügeltes Drift- und Fokussierungssystem, das Wafer-zu-Wafer-Fehlausrichtung kompensiert und konsistente Überlappungen über die Waferoberfläche beibehält. ASML 90 ist ein unschätzbares Werkzeug für die Halbleiterindustrie und ein Schlüsselbaustein bei der Herstellung von Chips. Es ist in der Lage, Muster mit großer Genauigkeit, Geschwindigkeit und Auflösung zu erzeugen, was einen kontinuierlichen Fortschritt im Elektronikbereich ermöglicht.
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