Gebraucht SVG / ASML 90S #39180 zu verkaufen

SVG/ASML 90S ist eine weit verbreitete Photolackausrüstung, die bei der Herstellung von Halbleiterchips verwendet wird. Es ist ein sogenanntes indirektes Belichtungslithographiesystem, das ein lichtempfindliches Material (Photoresist) verwendet, um die von seinem Bordcomputer erzeugten Muster auf ein Substrat zu übertragen. Die Einheit kann mit bis zu drei Belichtungsköpfen konfiguriert werden. Die Maschine besteht aus mehreren Teilsystemen, nämlich einem Scanner, einer Waferstufe, einem Maskenapplikator und einem Waferlader, die über ein Hochgeschwindigkeitsnetz verbunden sind. Der Scanner besteht aus mehreren optischen Komponenten sowie einer beweglichen Bühne. Die Stufe dient der Bewegung des Substrats und wird von hochpräzisen Motoren angetrieben. Um den Photolack zu strukturieren, wird Licht einer bestimmten Wellenlänge auf das Substrat projiziert. Ein schnelllaufendes, hochauflösendes Stufenwerkzeug stellt dann sicher, dass das Licht zu seinem Ziel auf die gewünschte Intensität genau gerichtet wird. Der Maskenapplikator befindet sich innerhalb des Scanners und nimmt eine Metallmaske auf, mit der das Muster auf das Substrat projiziert wird. Die Metallmaske selbst enthält Öffnungen und Projektionsanschlüsse, wobei Licht von der vorgegebenen Wellenlänge verwendet wird, um das gewünschte Muster zu erzeugen. Der Waferlader oder Lader/Entlader besteht aus mehreren Komponenten, die verwendet werden, um sicherzustellen, dass jedes Substrat korrekt ausgerichtet und auf die Bühne geladen wird, sowie um die einfache Übertragung des Substrats in und aus dem Asset zu erleichtern. Sobald sich das Substrat auf der Bühne befindet und sich die Maske im Maskenapplikator befindet, wird der Belichtungskopf gebrannt, der Lichtstrahl auf den Fotolack fokussiert und das Muster auf die Oberfläche projiziert. Der Belichtungskopf enthält eine Reihe von Sensoren und Reglern, die sicherstellen, dass das Muster genau mit der richtigen Intensität projiziert wird. Schließlich wird die Waferstufe verwendet, um das Substrat aus dem Modell zu entladen und das nächste Maximum für den Belichtungsprozess einzurichten. Nach dem Entladen des Substrats wird der Belichtungsvorgang solange wiederholt, bis das gewünschte Muster auf dem Substrat erzeugt wird. SVG 90S Photoresist-Ausrüstung ist ideal für Serienproduktionen, da sie in der Lage ist, präzise und konsistente Ergebnisse zu erzielen.