Gebraucht SVG / ASML 90S #9032372 zu verkaufen

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ID: 9032372
Coater / Developer track system, 8" Wafer Size: 200mm, notched, System on floor Right hand only unit 104” Stand-Alone Cabinet 2 Coat Modules w/chemical edge bead removal, 2 Develop Modules, 6 Vacuum Back Ovens, 2 Vapor Prime Ovens, 3 chill Plates, 1 OEBR Module Photoresist Temperature control Air Temperature and Humidity control(Coater and Developer) Complete air recirculation environmental control over all modules 4 serial arms and 1 90SE serial arm Floor is solid SS spill containment w/overflow sensors Solid doors in front of gauges and flow meters Control Module on CES, (left or right-integrated) Interface is rear pull 208 volts, 3-phase 60Hz Coater direct floor drain (Tee in cabinet) Developer direct floor drain (Tee in cabinet) Full clogged drain sensor on each coater Full SEMI S2-93 Containment for solvent/pump drawer enclosures, bulkhead Facility sensors for vacuum generators, DI water and Caustic exhaust SECS Communication Port Millipore controller / resist pump upgrades 1997 vintage.
SVG/ASML 90S ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von SVG entwickelt wurde, um überlegene Leistung und Zuverlässigkeit für Halbleiterhersteller zu einem wettbewerbsfähigen Preis zu bieten. Das System ist eine vollautomatische, hochpräzise, computergesteuerte Belichtungseinheit, die eine scanfähige Schlitzmaske verwendet, um die genaue Übertragung von berechneten optischen Mustern auf Photolackoberflächen während der Herstellung von mikroelektronischen Geräten zu ermöglichen. Die Maschine verwendet eine speziell entwickelte Lichtquelle, um den Fotolack zu belichten, mit einer anpassbaren Kombination aus Laserlicht und Elektronenstrahl-Bildgebung. SVG 90S bietet hervorragende Auflösung und Kontrolle durch die genau definierte Genauigkeit der Scanschlitzmaske, die für verschiedene Belichtungsstufen moduliert werden kann, und für seine Fähigkeit, eventuelle Belichtungsschwankungen zu kompensieren. Dieses Tool ermöglicht auch die rückseitige Vorspannung von Substraten, die die kritische Dimension (CD) und den Belichtungsspielraum beeinflussen können. ASML 90S bietet eine hohe Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit durch seine Scanning-Bewegung und All-Aluminium-Lamellenspiegel, die verwendet werden können, um eine breite Palette von Dosen aus einer einzigen Punktquelle zu richten. Seine wiederholbare Synchronisation der Abtastmasken und Lichtquelle bietet eine ausgezeichnete Wiederholbarkeit von CD und Belichtungsbreite über eine breite Palette von Substratformen und -größen. Das Asset unterstützt auch zahlreiche Verarbeitungskammern, die die Bildqualität optimieren, Partikel- und Fehlerwerte reduzieren und den Gesamtertrag verbessern können. Die Dosisgenauigkeit des Photoresist-Modells ist bemerkenswert aufgrund seiner Fähigkeit, jede Belichtungsvariation und seine hochauflösenden Quellpunkte sowie seine optimierte Lichtquelle und Kammerdesign zu kompensieren. Insgesamt bietet 90S Photoresist-Ausrüstung ausgezeichnete Zuverlässigkeit und Leistung aufgrund seines computergesteuerten Belichtungssystems, seines breiten Dosisspektrums, seiner hohen Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit und seines optimierten Kammerdesigns. Seine fortschrittlichen Fähigkeiten ermöglichen es Halbleiterherstellern, hochwertige integrierte Schaltungen mit genauen Eigenschaften und kontrollierten Substratantworten zu fertigen.
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