Gebraucht SVG / ASML 90S #9077807 zu verkaufen

SVG/ASML 90S ist eine computergesteuerte Photoresistausrüstung, die Kontaktdruck verwendet, um ein Muster in anspruchsvoller Weise auf ein Siliziumsubstrat zu übertragen. Es wird bei der Herstellung von mikroelektronischen Schaltungen verwendet. Das System verwendet Musterformen, die auf einem Rechner gespeichert und von einer integrierten optischen Säule optisch auf das Substrat projiziert wurden. Die optische Säule enthält eine Vielzahl von Linsen, wie Fokussierelemente, Abbildungselemente und Projektionselemente. Zwischen der optischen Säule und dem Substrat ist eine Maske angeordnet, die das Schaltungsmuster hält. Das Licht der Projektionslinse geht durch die Maske hindurch und wird auf das Substrat fokussiert. Wenn das Licht durch das Muster auf der Maske gelangt, wird es auf das mit Photolack beschichtete Substrat fokussiert. Je nach Art des verwendeten Photoresist-Materials wird es entweder dem Licht ausgesetzt oder vom Licht blockiert, um das Muster im Photoresist zu bestimmen. SVG 90S Einheit verfügt über einen Mustergenerator, um das gewünschte Design genau auf das Substrat zu reproduzieren. Diese Maschine enthält auch ein nahes Gitterinterferometer, mit dem die Fokussierung durch Vergleich der beiden Wellenfronten der projizierten und reflektierenden Strahlen gemessen wird. Dieses Werkzeug umfasst auch eine Stufensteuerung zur Einstellung der Genauigkeit der Bühnenbewegung, der Orientierung und der z-Achsen-Position. Darüber hinaus verfügt diese Anlage über einen Laserscanner, der Laserlicht auf das Substrat fokussiert und die Position der Bühne mit Submikron-Präzision einstellt. Dadurch wird sichergestellt, dass das Substrat genau bewegt werden kann, um die Positionierung des projizierten Musters beizubehalten. Das Substrat wird dann mit einer UV-Lichtquelle belichtet und damit der Photolack belichtet. Der belichtete Photolack wird dann in einem Lösungsmittel entwickelt und nach Herstellerangaben verarbeitet. Das Ergebnis ist ein Schaltungsmuster auf dem Substrat, das in seinen Abmessungen genau und präzise ist. Das Modell verfügt auch über ein Tool zur Integration nach dem Prozess, das die Leistung des Geräts überwacht und sicherstellt, dass es mit seiner höchsten Kapazität arbeitet. ASML 90S ist für die Herstellung von ultrahohen Dichte- und hochwertigen Mikrokomponenten wie Prozessoren, Mikrocontroller und Speicher unerlässlich. Es ist eines der genauesten und zuverlässigsten Photolacksysteme auf dem Markt.