Gebraucht SVG / ASML 90S #9245069 zu verkaufen

ID: 9245069
Wafergröße: 6"
(2) Coater / (2) Developer track system, 6" (4) Cassette loaders MILLIPORE Photoresist pump (4) Chill plates (5) Hot plates Full enclosure HDMS Module MICROBAR Trackmate 4-Port chemical delivery cabinet Manual control unit.
SVG/ASML 90S Photoresist Equipment ist ein Lithographiewerkzeug zur Herstellung von Halbleiterchips. Als solches ist es ein Schlüsselelement in der Fähigkeit der Halbleiterindustrie, ständig schrumpfende und immer leistungsfähigere Chips mit komplexen Eigenschaften zu produzieren. Das System kombiniert Elektronenstrahl-Resistverarbeitung, fortschrittliche Abbildungsoptik, Wafer-Ausrichtungstechnologie und fortschrittliche Wafer-Handling-Systeme, um die beste Chip-Geometrie und Topographie zu schaffen. SVG 90S besteht aus zwei Komponenten: dem Optik-Modul und dem Support-Modul. Das Optikmodul ist mit einer Ladungsteilchen (Elektronen) -Säule, einer bildgebenden Optik, einer Belichtungsumgebung mit niedrigem Vakuum und einer Triggereinheit ausgestattet, die zur Steuerung der Elektronenstrahlbelichtung verwendet wird. Das Optikmodul kann so programmiert werden, dass während des Belichtungsprozesses sehr präzise Merkmale in Resistschichten erzeugt werden, wodurch Verzerrungen durch die Wafertopographie oder Druckfehler kompensiert werden. Das Unterstützungsmodul dient zur automatisierten Waferausrichtung, Substrathandhabung und Kassettenbelastung. Die gesamte Maschine arbeitet, indem sie den Wafer erst so lange spinnt, bis er die richtige Geschwindigkeit hat, dann beginnt die Elektronenstrahlsäule, Elektronen auf die Resistschicht des Wafers abzuschießen. Die Elektronen werden durch die Abbildungsoptik auf die gewünschten Merkmale des Chipdesigns umgelenkt und fokussiert. Die Genauigkeit und Genauigkeit der Belichtung wird durch das Triggerwerkzeug des Optikmoduls gesteuert, das sehr präzise auf Zeit und Führung des Elektronenstrahls ausgelegt ist. Nachdem die KE-Belichtung abgeschlossen ist, wird das Element programmiert, um den Wafer zur Ausrichtung, zum Laden von Kassetten und zur Behandlung von Substraten in das Unterstützungsmodul zu verschieben. Die Kombination aus der Elektronenstrahl-Resistbearbeitung des Optik Moduls und der automatisierten Handhabung des Support Moduls von ASML 90S bietet eine hervorragende Genauigkeit und Wiederholbarkeit und ermöglicht es, gewünschte Merkmale auf Wafern präzise zu erzeugen und genau zu reproduzieren. Dieses Modell ist daher äußerst wertvoll bei der Herstellung fortschrittlicher Halbleiterchips, so dass Hersteller immer leistungsfähigere, effizientere und kleinere Chips erstellen können.
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