Gebraucht SVG / ASML 90S #9314698 zu verkaufen

SVG/ASML 90S ist eine Laser-Photoresist-Ausrüstung, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es wird verwendet, um die Muster für Lithographie und andere Herstellungsprozesse zu definieren. SVG 90S System verwendet einen Laser, um eine lichtempfindliche Beschichtung auf einem Substrat aufzubringen. Das Laserlicht wird durch eine Reihe von Linsen und Spiegeln auf das Substrat gerichtet, die das gewünschte Muster erzeugen. Das Substrat wird dann zu einem Resist entwickelt, der verhindert, dass ein Teil des belichteten Materials in späteren Stufen entfernt wird. Das Laserlicht wird zunächst durch einen mit Neodym dotierten Yttrium-Aluminium-Granat (Nd: YAG) -Kristall verstärkt und durch einen computergesteuerten Scanner bestimmt. Der YAG-Laser induziert ferner photoelektrische Effekte auf den belichteten Photolack, wodurch im belichteten Bereich eine geringe Querschnittsungleichförmigkeit entsteht. Diese Merkmale sowie die Intensität des Lichts können verändert werden, um die Leistung des Photolacks im Herstellungsprozess einzustellen. Der Laser wird dann mit einer Reihe von Linsen auf den Wafer fokussiert. Eine variable numerische Apertur (NA) -Einheit ermöglicht die Bildung unterschiedlicher Formen und Größen von Mustern auf dem Fotolack. Zur Erhöhung der Belichtungsauflösung kann auch ein Strahlteiler verwendet werden. Der Fokus des Lasers kann durch eine automatisierte Taumelspiegelmaschine gesteuert werden, um sicherzustellen, dass die Belichtung korrekt über den gesamten Wafer aufgebracht wird. ASML 90S Werkzeug wird in Verbindung mit deionisierten Wasserbad exponierte Resistentfernung, Steagall-Lift-off und Post-Exposure-Backsysteme verwendet. Mit diesem Asset können hochpräzise Lithographiemuster mit Entwicklungszeiten von nur wenigen Sekunden bis zu mehreren Minuten erstellt werden. Diese Muster können von großen (VLSI) Eigenschaften bis zu den kleinsten mikroelektronischen Schaltungen reichen. 90S Modell ist in der Halbleiterindustrie weit verbreitet, um Lithographiemuster für Fertigungsprozesse zu erstellen. Das Gerät liefert präzise und konsistente Belichtungen mit minimalem Energieverlust, so dass die bestmöglichen Ergebnisse in der Produktion erzielt werden können. Seine Fähigkeit, einheitliche Muster mit extrem kleinen Merkmalsgrößen zu produzieren, hat die Schaffung komplexer und fortschrittlicher mikroelektronischer Geräte ermöglicht.