Gebraucht SVG / C&D SEMI 86 Series #293655065 zu verkaufen

SVG/C & D SEMI 86 Series Photoresist Equipment besteht aus mehreren Elementen, die zusammenkommen, um die Übertragung feiner Muster auf verschiedene Substrate zu ermöglichen. Es verwendet einen speziellen hochauflösenden Photomasken-Scanner, um ein präzises Bild auf dem Chip-Wafer zu erzeugen, und das resultierende Bild wird dann über einen belichteten chemischen Prozess auf das Substrat übertragen. Die Photomaske dient auch zum Löschen oder Löschen der Muster, um die Repatterierung des Chip-Wafers zu ermöglichen. Der Photomasken-Scanner mit 15nm Auflösung und 4096x2096 Pixel Seitenverhältnis kann Chips präzise scannen als herkömmliche kamerabasierte Systeme. Der Photomasken-Scanner kann auch enge Tonhöhen genau scannen, so dass kompliziertere Designs auf Chips gelegt werden können. Neben dem Photomasken-Scanner umfasst das SVG 86 Series Photoresist System auch eine Kühlmitteleinheit, die die optimale Temperatur sowohl für die Photomaske als auch für den Wafer während des Betriebs aufrechterhält. Dadurch werden Schäden durch Wärmeausdehnung auf ein Minimum beschränkt, wodurch sichergestellt wird, dass die Muster genau auf das Substrat übertragen werden. Darüber hinaus verwendet die Maschine auch eine proprietäre Flüssigkeit Resiststoffe, die eine höhere Qualität und länger anhaltende Photoresist als herkömmliche Photoresists. Die Fotomaske von C&D SEMI 86 Series Photoresist Tool produziert ist kompakt und leicht, so dass es einfach zu bewegen und zu lagern. Es zeichnet sich sowohl durch eine gleichmäßige Benetzung der Photomaske als auch durch eine ausgezeichnete Haftung des Photolacks aus, was eine ausgezeichnete Qualität und Reproduzierbarkeit des auf das Substrat übertragenen Musters ermöglicht. Mit seiner Kompatibilität mit Mini-und Standard-Photomasken-Größen, kann das Asset leicht die Anforderungen und Einschränkungen der verschiedenen Chip-Designs. Insgesamt ist das 86-Serie-Photoresist-Modell eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die die genaue und qualitativ hochwertige Übertragung feiner Muster auf Substrate ermöglicht. Mit seinem robusten Design, dem hochauflösenden Photomasken-Scanner und Flüssigkeitsresistenten bietet das System eine hervorragende Präzision, Zuverlässigkeit und Wirtschaftlichkeit für die Herstellung und Entwicklung von Chips.