Gebraucht SVG / RITE TRACK 8800/8836 #9165921 zu verkaufen
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SVG/RITE TRACK 8800/8836 ist eine automatisierte Photolackausrüstung, die zur Strukturierung und Entwicklung von Präzisionsmerkmalen auf Halbleitersubstraten entwickelt wurde. Dieses System kann in Halbleiterherstellungsverfahren wie Photolithographie, Ätzen, chemisch-mechanische Planarisierung, Dotierung und Metallabscheidung eingesetzt werden. SVG 8800/8836 verwendet eine Dual-Track-Maschine für präzise Fotomuster und widersteht der Entwicklung. Die erste Spur dieses Tools ist für die präzise Strukturierung von benutzerdefinierten Funktionen auf dem Wafer konzipiert, während die zweite Spur für die Verarbeitung und Entwicklung von Resists verwendet wird. Die Anlage unterstützt die Entwicklung und Strukturierung einer Vielzahl von funktionellen Materialien, darunter thermisches Oxid, WBC-Oxie, GaAs, SOI, NiSi, Polyimid und viele andere Materialien. Das Modell RITE TRACK 8800/8836 enthält eine hochentwickelte Laserausrüstung zum Mustern und eine präzise Platzierungsstufe für das Wafer-Handling. Das Lasersystem nutzt zwei Mikrometer Spaltoptik und verfügt über optionale Strahlausrichtungen für verbesserte Muster und erhöhte Stabilität. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine variable Temperaturzone für schnelles Kühlen und Heizen sowie eine Flüssigkristallplatte für eine einfache Wafer-Navigation. Die gesamte Maschine kann in einem kompakten, einstückigen Körper platziert werden, um den Entwicklungsprozess besser zu erleichtern. Diese Funktion ermöglicht eine einfache Positionierung des Werkzeugs auf einem Reinraumboden und eine Verkürzung des Zeitaufwands für die Einrichtung und Neukonfiguration in mehreren Prozessen. Eine Vielzahl von Optionen, wie die fortschrittliche Wärmemanagement-Kühlung, sind auch verfügbar, um Kundenspezifikationen zu erfüllen. SVG 8800/8836 ist ein wichtiges Werkzeug für die Erstellung der genauesten und präzisesten Muster, für den Einsatz in den härtesten Halbleiteranwendungen. Es bietet einfach zu bedienende Funktionswerkzeuge, um Prozesse schnell und präzise anzupassen und zu konfigurieren. Dieses Modell ist ideal für Serienumgebungen, die eine präzise Strukturierung und Präzision erfordern und der Entwicklung widerstehen.
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