Gebraucht SVS MSX-1000 #9364566 zu verkaufen

SVS MSX-1000
Hersteller
SVS
Modell
MSX-1000
ID: 9364566
Wafergröße: 2"-6"
Track systems, 2"-6".
SVS MSX-1000 ist eine von Swedish Vacuum Systems (SVS) entwickelte Photoresist-Ausrüstung, die eine vollständige Palette innovativer Technologien integriert, einschließlich fortschrittlicher Vakuumsysteme, Bildgebungstechnologie und Automatisierung der Robotik. Das System basiert auf fortschrittlicher Vakuumtechnologie, die mehrere miteinander verbundene Komponenten zu einer einzigen integrierten Einheit kombiniert. Es verwendet eine Kombination aus Hochgeschwindigkeits-zweidimensionale Bildgebung, Vakuum-Extraktion und Vakuum-Anwendung, um wiederholbare und zuverlässige Ergebnisse zu gewährleisten. Die Maschine nutzt einen einzigartigen halbautomatischen Prozess, der höhere Durchsatzmengen in Bezug auf die Abscheidung und Entwicklung von resistiven Dünnschichten und MEMS-Komponenten ermöglicht. Die bildgebende Technologie des Werkzeugs, die eine detaillierte Abbildung von Substraten und Mustern ermöglicht, um einen genauen Abscheidungsprozess zu gewährleisten, unterstützt sowohl Standard-optische Lithographie als auch neuartige Mustertechniken. Es ist in der Lage, Substrate von bis zu 500mm2 Größe abzubilden und verfügt über eine Reihe von bildgebenden Modi, von Kontakt bis Extreme Ultra-Violet. Das Asset verfügt zudem über eine aktive Hintergrundbeleuchtungsfunktion, die zur Kontrastbildgebung und Hintergrundbeleuchtung genutzt werden kann. Das Vakuummodell ist in der Lage, Materialien und Flüssigkeiten schnell und präzise zu übertragen und gleichzeitig eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Zu den verschiedenen Komponenten gehören ein Roboterarm zur automatisierten Übertragung von Teilen, ein thermischer Verdampfer zur Abscheidung dünner Filme und eine Sputteranlage zur Metallabscheidung. Der kombinierte Effekt der fortschrittlichen Eigenschaften von SVS MSX 1000 ist, dass es die genaue und konsistente Abscheidung von Photolackschutzschichten für die Planarisierung oder für die anschließende Verarbeitung ermöglicht. Durch die Kombination der Abbildungs- und Abscheidefähigkeiten des Systems ist es möglich, wiederholbare Merkmale mit gleichbleibend hochwertiger Mikroskala-Strukturierung bis zum Sub-Mikron-Niveau zu schaffen. Darüber hinaus bietet MSX-1000 eine umfassende Softwareunterstützung, die eine präzise Steuerung des Abscheideprozesses und der Bildanalyse ermöglicht. Dies gewährleistet die optimale Haftung von Photolackschichten und eine möglichst hohe Auflösung der aufgebrachten Bilder. MSX 1000 ist eine leistungsstarke Photolackeinheit, die entwickelt wurde, um die Abscheidung von Schutzschichten und die präzise Anwendung von Mikromustern auf eine Reihe von Substraten und Materialien zu optimieren. Es verfügt über eine breite Palette von innovativen Funktionen wie moderne Vakuumsysteme, bildgebende Technologie und Robotik-Automatisierung, die es eine ideale Wahl für eine Vielzahl von industriellen Anwendungen machen.
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