Gebraucht SVS / SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000-3C #9358813 zu verkaufen

SVS / SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000-3C
ID: 9358813
Spin coaters.
SVS/SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000-3C Photoresist Equipment ist ein robustes und zuverlässiges Werkzeug, das sich ideal für die Verwaltung komplizierter Lithographieverfahren eignet. Es bietet eine äußerst zuverlässige und kostengünstige Lösung für Serienumgebungen. SVS MSX-1000-3C verwendet einen einzigartigen negativen Ton, umlaufende Photovoltaik (PV) Resist, um es Herstellern zu ermöglichen, die überlegene Auflösung und Lichtstabilität von negativen Tonphotoresistprozessen zu nutzen. Das System verfügt über einen Drei-Quellen-Resistdetektor, der ein zuverlässiges Maß an Photovoltaik-Detektion und fortschrittliche Lithographie-Fähigkeit bietet. Das Gerät ist in der Lage, eine breite Palette von Substratgrößen und -dicken zu handhaben und bietet eine kostengünstige Lösung für die Großserienfertigung von Chipkomponenten und -geräten. SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000-3C verwendet einen Rasterelektronenstrahl (SEB) optischen Scanner, um ein Bild oder Muster auf dem negativen Ton zu erzeugen, peribinär, PV-Resist. Der optische SEB-Scanner ist in der Lage, das Strahlmuster, die Abtastgeschwindigkeit und die Belichtungsstufen für eine Vielzahl von Substratgrößen und -dicken genau zu steuern. Darüber hinaus wurde MSX-1000-3C entwickelt, um hochauflösende Bilder mit einer maximalen Auflösung von 25 Mikron pro linearen Zoll (0,0881 mm/Zoll) zu erstellen. Die Maschine ist auch mit einer erweiterten Waferoberflächenanalyse-Suite ausgestattet, mit der Materialfehler und Anomalien erkannt werden können. SVS/SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000-3C umfasst einen leistungsfähigen Substratprozessor, der eine fortschrittliche Prozesssteuerung und Automatisierung bietet, um eine gleichbleibende Bildqualität sicherzustellen. Der Prozessor kann bis zu sechs voreingestellte Muster und drei Substratgrößen speichern. Es bietet auch eine adaptive Belichtungssteuerung mit einstellbarer Belichtungszeit sowie eine schnelle Scanzeit und fotoenergetische Kartierung. Darüber hinaus verwendet der Prozessor fortschrittliche bildgebende Algorithmen und mathematische Modellierung, um eine optimale Lithographie-Genauigkeit zu gewährleisten. Darüber hinaus enthält SVS MSX-1000-3C Photoresist-Tool eine robuste Software, die den Lithographieprozess automatisiert. Die Software ermöglicht es Benutzern, die Scangeschwindigkeit, Belichtungsstufen, Bildqualität und Belichtungszeit zu steuern. Darüber hinaus bietet die Software eine intuitive grafische Benutzeroberfläche für einfache Navigation und eine umfangreiche Bibliothek mit flexiblen Programmen. Diese Programme ermöglichen es Benutzern, Muster schnell und präzise zu entwerfen und zu analysieren und gleichzeitig die Wiederholbarkeit und Robustheit der Prozesse zu erhalten. Schließlich bietet SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000-3C photoresist asset eine breite Palette von Diagnose- und Support-Tools. Das Modell enthält eine intelligente Wartungsausrüstung, die den Systemzustand überwacht und entsprechende Kalibrierungsanpassungen vornimmt. Darüber hinaus umfasst es sichere Zugangssoftware für archivierte Prozessdaten und Reparaturen und bietet umfassenden technischen Support. Die sichere Zugriffssoftware sorgt dafür, dass alle Daten sicher gespeichert und gesichert werden, um Ausfallzeiten zu reduzieren.
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