Gebraucht SVS / SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000 #9267212 zu verkaufen
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SVS/SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX-1000 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die speziell für fortschrittliche Photolithographie-Anwendungen entwickelt wurde. Dieses System verwendet ein fortschrittliches photochemisches Verfahren, bei dem eine lichtempfindliche Photolacklösung einem Lichtmuster ausgesetzt und chemisch entwickelt wird, um Muster auf Halbleiteroberflächen zu erzeugen. SVS MSX-1000 verwendet einen hochpräzisen Schrittmotor, um ein bestimmtes Lichtmuster auf die Oberfläche des Photolacks zu projizieren. Dieses Lichtmuster ist auf die Schematik des gewünschten, auf die Oberfläche geätzten Musters abgestimmt. Das Substrat wird dann einer kontrollierten Lichtmenge ausgesetzt, um die chemische Entwicklung des Photolacks zu erleichtern. SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX1000 kann durch seine einstellbaren Parameter auf spezifische Anwendungen zugeschnitten werden. Es bietet eine präzise Kontrolle über Belichtungsdauer und Wellenlänge des Lichts. Es ermöglicht dem Benutzer auch, die gewünschte Ätzmustergröße, Auflösung und Form auszuwählen. Dies gibt ihm große Flexibilität in seiner Fähigkeit, das gewünschte Muster zu erzeugen. Bei der Belichtung kann der Benutzer den chemischen Entwicklungsansatz wie Basisätzen oder Korrosion für das Muster auswählen. Dies ermöglicht eine zusätzliche Kontrolle und Präzision über das fertige Produkt. All dies wird über eine interaktive grafische Benutzeroberfläche auf MSX-1000 aufrechterhalten. Darüber hinaus ermöglicht diese grafische Benutzeroberfläche dem Benutzer, alle Parameter in Echtzeit zu überwachen und anzupassen. SVS/SCIENTIFIC VALUE SOLUTIONS MSX1000 hat die Fähigkeit, Muster von extrem kleinen Komponenten, bis zu 0,25 Mikrometer, zu extrem großen Komponenten zu ätzen. Es kann auch Muster auf Oberflächen wie Metall, Silizium und Oxid ätzen. Damit können SVS- MSX1000 für viele Anwendungen in der Elektronikindustrie eingesetzt werden. MSX1000 ist eine erschwingliche und qualitativ hochwertige Photolithographieeinheit, die den Bedürfnissen von Ingenieuren und Forschern gleichermaßen gerecht wird. Mit fortschrittlichen Steuerungsparametern und Echtzeit-Überwachungsfunktionen ist diese Maschine ein leistungsstarkes Werkzeug zur Erstellung feiner, komplizierter Muster, die sonst nicht manuell erreicht werden könnten.
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