Gebraucht TAIWAN UYEMURA AELPE-1206 #293607136 zu verkaufen

TAIWAN UYEMURA AELPE-1206 ist eine hochentwickelte Photolackausrüstung. Das System verwendet eine flüssige chemische Beschichtung, die auf ein Substrat, wie eine Leiterplatte, oder andere Arten von Schaltungskomponenten aufgebracht wird. Diese Flüssigkeit enthält entweder positive oder negative Photoresistmoleküle, die selektiv durch Belichtung mit einer bestimmten Lichtquelle ausgelöst werden. Sobald das Photoresist-Molekül von der Lichtquelle aktiviert wird, erfährt es eine chemische Veränderung, die entweder die freiliegenden Teile des Substrats herausätzt oder eine Schutzschicht darauf bildet. Dadurch lassen sich feine Metallschichten mit hoher Präzision auf dem Substrat abscheiden. Das Gerät ist äußerst präzise konzipiert und kann extrem komplizierte Designs mit hoher Genauigkeit und Auflösung erzeugen. Die Photolackmaschine wird in einer Reihe von Anwendungen verwendet, einschließlich Herstellung von Schaltungen auf Leiterplatten, Bearbeitung von Metallen und Kunststoffen, Herstellung von medizinischen Geräten und sogar Herstellung von komplizierten Stücken des Art. Das Werkzeug besteht aus mehreren Komponenten, die die Photolackeinheit, einen Lösungsbehälter und eine Lichtquelle zur Belichtung des Photolacks um das Substrat umfassen. Die Photolackeinheit ist typischerweise eine nichtflüchtige Flüssigkeit, die in konzentrierter Form hergestellt oder mit einem Lösungsmittel verdünnt werden kann. Sie reagiert wellenlängenmäßig auf Licht und muss somit auf die jeweilige Lichtquelle abgestimmt werden. Die Lichtquelle kann alles aus einem ultravioletten Licht, einem LED-Licht oder einem blauen Licht sein, das zur Belichtung verwendet wird. In Abhängigkeit von der Empfindlichkeit des Photolacks und dem gewünschten Design kann die Lichtbelichtungsmenge stark variieren. Um den Photolack konsistent zu halten, muss der Lösungsbehälter regelmäßig gereinigt und nachgefüllt werden. Verunreinigungen und Verunreinigungen können schwerwiegende Schäden am Photolack verursachen und ein unbeabsichtigtes Ätzen des Substrats bewirken. Im Hinblick auf die Sicherheit ist AELPE-1206 so konzipiert, dass es sicher ist. Die in der Anlage verwendete Lichtquelle ist als niedrige Leistung ausgelegt und entspricht internationalen Sicherheitsstandards. Der Photoresist selbst ist ebenfalls als ungiftige und nicht reizende chemische Lösung formuliert. Insgesamt ist TAIWAN UYEMURA AELPE-1206 ein fortschrittliches Photolackmodell, das hochpräzise und präzise ist. Durch die Verwendung der entsprechenden Lichtquellen und Photoresist-Lösung ist das Gerät in der Lage, komplizierte Muster auf verschiedenen Substraten mit großer Genauigkeit und Auflösung zu erstellen. Dieses System wird in zahlreichen Anwendungen eingesetzt und ist so konzipiert, dass es sicher in der Anwendung ist.