Gebraucht TAKADA TWPS-064-TJ #9266615 zu verkaufen

TAKADA TWPS-064-TJ ist ein negativ wirkendes Photolacksystem für den Einsatz im Bereich der Mikro- und optoelektronischen Geräteherstellung. Es bietet überlegene Ätzbeständigkeit und Auflösung und eignet sich sowohl für Dickschicht- als auch für Dünnschicht-Photoresist-Prozesse. Der Photoresist besteht aus einer negativ wirkenden, säurekonstruierten Formel, die bei UV-Licht eine schnelle Vernetzung an der Säurestelle ermöglicht. Diese Funktion ermöglicht hochauflösendes Ätzen von sehr feinen Mustern und ist somit ideal für die Herstellung von Mikro- und optoelektronischen Geräten. Der Photolack liegt in Form einer pastösen Flüssigkeit mit einer Viskosität von bis zu 1,4 Poise vor. Es kann mit einem Rakel-, Sieb- oder Spin-Coating-Verfahren auf das Substrat aufgebracht werden. Nach dem Aufbringen des Resists auf das Substrat kann dieser dann entweder mit einer reflektierenden Maske oder einer nicht reflektierenden Maske mit UV-Licht belichtet werden. Bei Belichtung werden die belichteten Bereiche des Resistes aufgrund der Formel auf Säurebasis schnell vernetzt, wodurch eine polymerisierte Struktur entsteht, die eine überlegene Ätzbeständigkeit aufweist. Dadurch wird sichergestellt, daß während des Ätzvorgangs nur die belichteten Bereiche des Resists beeinflußt werden. Dadurch lassen sich hochpräzise und komplizierte Muster realisieren. Nach der Belichtung muss der Photolack entwickelt und gebacken werden, um den Prozess abzuschließen. Der Entwicklungsprozeß entfernt die belichteten, aber unbelichteten Bereiche des Resists, und der Einbrennprozeß stellt sicher, daß die säurebasierte Reaktion abgeschlossen ist und überschüssige Lösungsmittel und unvernetzte Komponenten des Photolacks entfernt werden. TWPS-064-TJ ist ein zuverlässiges und hocheffizientes Photolacksystem, das eine überlegene Ätzfestigkeit für präzise und komplizierte Muster bietet. Mit seiner säurebasierten Formel bietet es zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse für eine breite Palette von Mikro- und optoelektronischen Geräteherstellungen. Die pastöse Flüssigkeit lässt sich einfach mit einem Rakel-, Sieb- oder Schleuderverfahren auf das Substrat auftragen. Es kann dann UV-Licht ausgesetzt, entwickelt und gebacken werden, um zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse für komplizierte und hochauflösende Muster zu erzielen.