Gebraucht TAZMO Semix #293597130 zu verkaufen

TAZMO Semix ist eine Photoresist-Ausrüstung, die im Ätz- und Strukturierungsprozess von Halbleiterscheiben verwendet wird. Es besteht aus zwei Hauptkomponenten - der Photolackbeschichtung und ihrem Entwicklungsprozess. Der Photolack ist ein auf den Wafer aufgebrachtes chemisches Gemisch, meist unter Verwendung eines Schleuderwassers. Die Photolackbeschichtung enthält ein lichtempfindliches Mittel, das einer Lichtquelle ausgesetzt wird. Die Exposition bewirkt eine chemische Veränderung des Resists, mit der ein Muster erzeugt werden kann. Es folgt der Entwicklungsprozess, bei dem der Resist mit einem Entwicklungsmittel weiterverarbeitet wird und die nicht lichtbelasteten Bereiche entfernt werden. Durch die Kombination der Photolackbeschichtung und des Entwicklungsprozesses sind Ingenieure in der Lage, Muster auf Materialien mit einem höheren Wirkungsgrad im Vergleich zu anderen Methoden genau zu fertigen. Semix-Photoresists verwenden eine Formulierung auf Acrylbasis mit einer einzigartigen Mischung aus hochleistungsfähigen photoaktiven Verbindungen und proprietären organischen Flussadditiven. Diese proprietäre Formulierung bietet eine überlegene Ätzfestigkeit und scharfe Kantendefinition gegenüber anderen Photoresists auf dem Markt. Mit niedrigen Betriebskosten und überlegenen Funktionen ist das TAZMO Semix Photoresist-System ideal für den Einsatz in der Wafer-Fertigungsindustrie. Die Einheit bietet auch eine ausgezeichnete Haftung und Flexibilität in einer Vielzahl von Halbleitermaterialien. Semix Photoresist hat überlegene Bogeneigenschaften, die es ermöglichen, zugrunde liegende Materialien effektiv zu schützen, während Muster mit Auflösung und Genauigkeit übertragen werden können. TAZMO Semix Photoresist Beschichtungen haben ausgezeichnete und breite Passivierung, Sauberkeit und hohlraumfreie Eigenschaften. Es enthält auch eine patentierte Lösung auf Wasserbasis, die bei der Entwicklung und Reinigung von Tieftemperaturen hilft. Die Maschine ist für den Einsatz auf einer Vielzahl von Substraten konzipiert, einschließlich Siliziumoxid, Siliziumnitrid, Quarz, Aluminiumoxid und anderen. Schließlich bieten Semix Photoresist-Systeme auch einen effektiven Nachprozess-Ätzschutz und sind in einer Vielzahl von Empfindlichkeiten verfügbar. Das Tool ist ideal für die kostengünstige Bearbeitung von Diagnose-, Test- und anderen äußerst kritischen Anwendungen. Die breite Palette an Empfindlichkeiten und Anpassungsmöglichkeiten machen TAZMO Semix zur perfekten Wahl für die Herstellung jeder Art von Halbleiterprodukten.