Gebraucht TAZMO TZP #148486 zu verkaufen

TAZMO TZP ist ein branchenführendes Photoresist-System, das den Anforderungen einer Vielzahl von Anwendungen zur Herstellung von Photolithographie und Leiterplatten (PCB) gerecht wird. Es verwendet ein hochleistungsfähiges fluoriertes Polymer mit einem niedrigen Molekulargewicht, wodurch eine dünnere Photoresistschicht und eine verbesserte Bildauflösung bei UV-Licht erzeugt wird. Das Polymer wird in flüssiger Form abgegeben und muss vor dem Einbrennen bei einer bestimmten Temperatur auf ein Substrat aufgebracht werden. Nach Belichtung wandelt sich die Photolackschicht in ein lösliches Polymer um, das mit einem geeigneten Lösungsmittel oder alkalischen Entwickler leicht entfernt werden kann. Die verbleibende Photoresistschicht wird dann durch eine aufgedampfte Reflowschicht geschützt, die durchgehend eine Gleichmäßigkeit erzeugt. Auch die Verwendung einer aufgedampften Reflowschicht erhöht die gesamte Schwimmfähigkeit während der Belichtung erheblich. Die ausgezeichnete Belichtungsleistung von TZP ist das Ergebnis von drei Hauptmerkmalen: hohe Haftung auf dem Substrat, geringe Oberflächenspannung und ausgezeichnete Stabilität bei hohen Temperaturen und chemischer Handhabung. Die hohe Haftung verhindert das Peeling des Photolacks, was bei anderen Photolithographiesystemen üblich war. Die niedrige Oberflächenspannung ermöglicht eine überlegene Bildauflösung und die ausgezeichnete Stabilität bei hohen Temperaturen und chemischer Handhabung ermöglicht eine konsistentere Verarbeitung und eine höhere Zuverlässigkeit im Laufe der Zeit. TAZMO TZP wurde für den Einsatz in der Leiterplattenherstellung optimiert und bietet eine hervorragende Bildkonsistenz und Wiederholbarkeit, selbst in den fortschrittlichsten Druck- und Ätzprozessen. Es ist auch sehr tolerant gegenüber Hochtemperatur- und chemischer Verarbeitung, so dass ein zuverlässiger Betrieb und eine kostengünstige Produktion gewährleistet sind. Zusätzlich verringert die Verwendung eines fluorierten Polymers auch die Wahrscheinlichkeit einer Kupferblüte und verhindert die Bildung unerwünschter Nähte und Filamente während des Ätzprozesses. TZP-Photoresist-System bietet ausgezeichnete Materialleistung und zuverlässige Produktion und ist eine ideale Wahl für viele Photolithographie- und Leiterplattenherstellungsanwendungen. Mit seiner überlegenen Belichtungsleistung, seiner ausgezeichneten Stabilität und der reduzierten Kupferblüte liefert das TAZMO TZP Photoresist-System zuverlässige Ergebnisse bei jeder Anwendung.