Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #293630206 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsanwendungen verwendet wird. Das System ist in der Lage, eine Vielzahl von kritischen Photolithographie-Schritten zu handhaben, so dass Ingenieure hochauflösende Funktionen bis zu 10 Nanometer erreichen können. Es verfügt über eine programmierbare Mehrstromquelle, die eine hohe Flexibilität in Bezug auf Overlay und Musterübertragung ermöglicht. Die Einheitenarchitektur von TEL ACT 12 wurde entwickelt, um vorhandene Geräte, einschließlich ihrer Lithographietabelle, optischen Komponenten und Musterfunktionen, optimal zu nutzen. Seine benutzerfreundliche Softwareschnittstelle erleichtert es Ingenieuren, komplizierte elektronische Muster mit beispielloser Präzision zu erstellen, einschließlich Reverse-Probing für mehr Genauigkeit. TOKYO ELECTRON ACT12 verfügt auch über eine zuverlässige und robuste Bewegungssteuerungsmaschine, die mit hoher Geschwindigkeit und Genauigkeit arbeitet. Sein Doppelstrahl-Scanner ermöglicht präzise Mehrschicht-Bildgebung, mit galvanometrischen Scannen und einer motorisierten θ -z-Stufe, die einen breiten Schwad der Anpassung an Helfer in der optimalen Gestaltung des Musters. Die integrierten Steuerungskomponenten bieten automatisierte, sorgenfreie Bedienung und Präzisionsgenauigkeit. Dieses Tool wurde entwickelt, um die Belichtungszykluszeit zu reduzieren und den Durchsatz zu erhöhen. Darüber hinaus bietet das Asset leistungsstarke Ausrichtungs- und Optimierungsfunktionen sowie überlegene Fehlererkennungsfunktionen und verbessert die Handhabungssicherheit von Photoresist. TOKYO ELECTRON ACT 12 wurde entwickelt, um Kunden eine überlegene Leistung und Zuverlässigkeit zu bieten. Dieses Modell soll in der Halbleiter- und Elektronikindustrie sehr erfolgreich sein und eine beispiellose Belichtungsgleichförmigkeit und eine stabile, wiederholbare Belichtungsdosissteuerung bieten. Anwender können schnelle Rendite und höhere Produktivität erwarten. Darüber hinaus wird diese Ausrüstung gebaut, um höhere Erträge, eine verbesserte Schrittabdeckung und eine konsistente Wafer-zu-Wafer-Leistung zu gewährleisten.