Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #293630207 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Automatisierung des Prozesses der Photolithographie. Diese Technik wird für die Herstellung von integrierten Schaltkreisscheiben angestrebt, indem eine Maske ein präzises Muster auf einem dünnen Materialfilm, einem sogenannten Photoresist, liefern kann. Zu den Hauptmerkmalen des Photolacksystems TEL ACT 12 gehören eine ausgeklügelte Elektronenstrahl-Schreibeinheit und eine kontaktlose Trockenentwicklungsmaschine der zweiten Generation. Mit dem Elektronenstrahl-Schreibwerkzeug werden die Muster auf dem Fotolackfilm erzeugt. Dies geschieht durch Fokussierung eines Hochfrequenzelektronenstrahls auf den Film, wodurch ein hochauflösendes Muster auf dem Substrat belichtet werden kann. Dies ermöglicht eine hohe Genauigkeit und Präzision bei der Herstellung der Muster. Das Asset enthält einen programmierbaren Satz von Schreibparametern, so dass der Benutzer verschiedene Aspekte des Belichtungsprozesses steuern kann. Das kontaktlose Trockenentwicklungsmodell der zweiten Generation ist besonders nützlich, um den Durchsatz zu erhöhen und das Auftreten von Musterverzerrungen zu minimieren. Diese Einrichtung ermöglicht es, während des Entwicklungsprozesses ein hochauflösendes Muster auf den Photolack zu übertragen. Dies geschieht durch Verwendung einer Flüssigkeit mit einem geeigneten Lösungsmittel, um den Photolack vom Substrat zu lösen, während das Muster aufgrund der Haftung des Lösungsmittels am Photolack beibehalten wird. TOKYO ELECTRON ACT12 Photoresist System verfügt auch über eine überlegene Präzisionsausrichtungseinheit. Dadurch wird sichergestellt, dass die Ausrichtung der Maske auf das Substrat genau ist, wodurch die Fehlerchancen im Druckmuster minimiert werden. Darüber hinaus ist die Maschine mit einem fortschrittlichen optischen OCR-Werkzeug ausgestattet, das das genaue Lesen und Drucken von Daten auf dem Substrat ermöglicht. Zusammenfassend ist ACT 12 Photoresist Asset ein fortschrittliches, automatisiertes Photolithographiemodell. Es wurde entwickelt, um hohe Genauigkeit und Präzision im Musterprozess zu bieten, und verwendet fortschrittliche Elektronenstrahlen und kontaktlose Trockenentwicklungstechnologien, um die Effizienz zu maximieren. Darüber hinaus sorgen die überlegene Präzisionsausrichtung und das optische OCR-System für die Genauigkeit der gedruckten Muster und machen TOKYO ELECTRON ACT 12 zu einer guten Wahl für alle Ihre Anforderungen an die Strukturierung von Halbleitern.