Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9105213 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist ein Photoresist-System, das in Lithographieverfahren innerhalb der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es handelt sich um eine Dampfphasenabscheidungstechnik zum Aufbringen einer dünnen Schicht aus Photolackmaterial auf ein Substrat wie Silizium oder Glas. Die Technologie arbeitet, indem sie ein flüssiges Monomer, Sensibilisator, festen Füllstoff und Verdünnungsmittel kombiniert, um eine Suspension von Photoresist-Material zu schaffen. Diese Suspension wird dann über ein Sprühgerät oder Spinnbeschichtungstechniken auf das Substrat aufgebracht. Sobald die Photolackbeschichtung gleichmäßig ist, wird sie ausgehärtet, so dass sie auf dem Substrat haftet. Sobald die Photolackschicht ausgehärtet und auf dem Substrat haftet, ist das Material strahlungsempfindlich. TEL ACT 12 verwendet einen kurzen Puls geringerer UV-Energie, typischerweise in Form einer eingebauten Laserquelle, um eine Belichtung des Photolacks mit der aktivierten Strahlungsquelle zu bewirken. Die zugrundeliegende Strukturierung des Substrats dient nun als Maske zur Bestimmung der abbildenden Auflösung der Resistentwicklung. Der Photolack wird mit einem chemischen Entwicklungsverfahren entwickelt, das die löslichen Bereiche des Photolacks in die unlöslichen Bereiche verändert. Darüber hinaus können je nach Bedarf des lithographischen Verfahrens positive und negative Photoresists eingesetzt werden. TOKYO ELECTRON ACT12 wird üblicherweise in der Halbleiterverarbeitung als Verfahren zur Strukturierung von Schichtgeometrien und -merkmalen verwendet. Auf diese Weise können vordefinierte Bilder auf einen Halbleiter genau und zuverlässig repliziert werden. Es wird auch häufig für die Prozessdiagnose wie die Überprüfung der Ausrichtung von Mustern während des Lithographieprozesses verwendet. ACT 12 Prozess ist in der Lage, genaue Kontrolle über Mustertreue. Mit dieser Technologie lassen sich komplexe Bilder erzeugen, insbesondere in Verbindung mit optischer Lithographie. Das Verfahren ist auch in der Lage, sehr dünne Filme zu schaffen, die beständig gegen die Belastung durch verschiedene Arten von Strahlung, Wärme und Chemikalien sind. Darüber hinaus bietet das Verfahren ein umweltfreundliches Photolacksystem in Bezug auf reduzierte Emissionen von flüchtigen organischen Verbindungen (VOC). Abschließend bietet das Photolacksystem TEL ACT12 eine zuverlässige und effiziente Möglichkeit, lithographische Muster präzise zu erstellen. Es ist langlebig und beständig gegen Strahlung, Wärme und Chemikalien, um sicherzustellen, dass Muster während der Verarbeitung im Takt bleiben und bietet auch eine umweltfreundliche Option in Bezug auf VOC-Emissionen.