Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9112122 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für fortgeschrittene Herstellungsverfahren von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Dieses System verwendet einen Hochgeschwindigkeits-maskenlosen Ausrichter, um eine präzise Strukturierung von Photoresists, antireflektiven Schichten und anderen Materialien zur Herstellung von Halbleiterbauelementen zu ermöglichen. Herzstück von TEL ACT 12 ist der Hochgeschwindigkeits-maskenlose Aligner. Der Aligner verfügt über einen integrierten Raumlichtmodulator (SLM) kombiniert mit einer Objektivlinse, um Photolackmaterialien mit einer Belichtungsauflösung von 0,8 μ m oder mehr genau zu strukturieren. Der SLM enthält Tausende individuell adressierbare reflektierende Elemente, die den Laserstrahl modulieren können, um Bilder schnell und präzise zu erfassen. Die präzise Strukturierung des Photolacks ermöglicht die Definition komplexer Mehrschichtstrukturen durch Submikronmerkmale. TOKYO ELECTRON ACT12 unit ist außerdem mit einem Waferlader und einer Temperaturregelung ausgestattet, um eine gleichmäßige Belichtung der Photolackschicht zu gewährleisten. Der Waferlader hält den Wafer auf einem motorisierten Förderband und positioniert ihn präzise in der Ausrichtmaschine. Die Temperaturregelung verwendet eine integrierte Kühleinheit, um sicherzustellen, dass der Photolack für die Belichtung auf der richtigen Temperatur gehalten wird. ACT12 verfügt auch über ein automatisches Fehlerinspektionswerkzeug, das Fehler in der Photolackschicht wie Nadelöcher, Kratzer und Hohlräume erkennen kann. Die fortgeschrittenen Bearbeitungsalgorithmen des Tools analysieren die Photolackschicht und identifizieren Fehler, so dass Ingenieure sie schnell und einfach identifizieren und adressieren können, bevor sie mit der Geräteherstellung fortfahren. Schließlich ist TOKYO ELECTRON ACT 12 Asset in der Lage, eine Vielzahl von Photolackmaterialien zu handhaben, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden. Es ist auch kompatibel mit einer Vielzahl von Belichtungsprozessen wie Direct-Write, Step & Repeat und Step & Scan. Das Modell kann für eine Vielzahl von Geräteanwendungen, wie z.B. MEMS-Geräte, eingesetzt werden und für weitere Gerätekomplexität in andere Systeme wie die Elektronenstrahllithographie integriert werden.