Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9152987 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung von TEL, einem weltweit führenden Anbieter von Halbleiterprozesstechnologien. Dieses System bietet Herstellern eine leistungsstarke Plattform, um die schwierigsten 3D-Strukturen, die für Geräte der nächsten Generation unerlässlich sind, genau zu mustern. TEL ACT 12 kombiniert fortschrittliche Photolithographie-Technologie und -Prozesse mit umfassender Photomasken- und Substratüberwachung/-steuerung. Die Plattform ist mit zwei Mustergeneratoren ausgestattet, einschließlich eines Master- und Slave-Mustergenerators. Der Master-Mustergenerator ist mit einem 12-Zoll-Ellipsometer ausgestattet, das die Abbildung von Resists mit einem hochgenauen Bild ermöglicht. Die Master- und Slave-Mustergeneratoren sind mit der Datenverarbeitungseinheit verbunden, die eine umfassende Steuerung und Überwachung der Belichtungen ermöglicht. Die Datenverarbeitungseinheit ist für die Lieferung der gewünschten Belichtungsparameter an den Mustergenerator sowie die Überwachung der Belichtungsparameter zuständig. TOKYO ELECTRON ACT12 hat die Fähigkeit, Bilder mit überlegener Belichtungsgleichmäßigkeit und Stabilität zu erzeugen. Diese Plattform kann Photoresists mit einer Dicke von bis zu 10 nm handhaben und eignet sich daher für die fortschrittliche Geräteherstellung wie FinFETs. Die Architektur der Maschine ist zudem mit einem automatisierten Fokus und Level (AFAL) und einer Feinabstimmung der Fokussierbarkeit ausgestattet, was einen optimalen Bildkontrast gewährleistet. Die Plattform unterstützt nicht-chemisch verstärkte (NCA) Resist- und Standard-Nassresistprozesse, die eine hohe Auflösung und Präzision ermöglichen. Es ermöglicht auch die ein- oder mehrschichtige Belichtung sowie die Möglichkeit, Spin-on-Komponentenmaterialien (SOC) für Anwendungen zu verwenden, bei denen spezielle Resisteigenschaften erforderlich sind. TEL/TOKYO ELECTRON ACT12 verfügt über eine hochintuitive Benutzeroberfläche, die die Bedienung des Werkzeugs vereinfacht und die notwendige Rüstzeit reduziert. Funktionalität wie automatisierte Substrattemperaturregelung und Belichtungsüberwachung geben Anwendern die Sicherheit, dass die Belichtungsparameter innerhalb der Spezifikationen liegen. Darüber hinaus ist die Anlage mit einem Glitch-Erkennungsmodell ausgestattet, das Daten im Zusammenhang mit Substrat-, Masken- und Belichtungsparametern erfasst und speichert, die inakzeptable Muster verursachen könnten. TEL ACT12 bietet Herstellern eine zuverlässige Photolackplattform, um die anspruchsvollsten Mikrostrukturen mit höchster Genauigkeit herzustellen. Die Kombination aus leistungsstarken Mustergeneratoren, automatisierten Systemen und Prozessüberwachung garantiert die bestmögliche Leistung für die Belichtung von bis zu 10nm dicken Folien. Diese Ausrüstung ist ein großartiges Werkzeug für die fortschrittliche Halbleiterherstellung, da sie eine große Genauigkeit und Kontrolle bietet.