Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9163162 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 Photoresist ist ein halbautomatisches System, das für die Substratverarbeitung entwickelt wurde. Es wird in LED-Geräteherstellungsprozessen wie Maskenmusterung, Kontaktlochbildung, Nachätzreinigung und anderen verwendet. Es ist hauptsächlich für Anwendungen wie Halbleiterbauelementherstellung, LCD-Plattenherstellung, Mikrofilmherstellung, Medizinprodukteherstellung und optische Elementherstellung gebaut. TEL ACT 12 Einheit ist entworfen, um eine sehr gleichmäßige Photolackbeschichtung auf Substraten wie Glas, Kunststoff und Metall bereitzustellen. Es ist mit einem Hochgeschwindigkeits-Prozesskopf ausgestattet, der eine präzise Beschichtungstechnologie sowie eine mehrreihige Prozessgenauigkeit aufweist. Die Maschine bietet auch hervorragende Leistung der Nassverarbeitung und Vorbacken und Nachbelichtung Backeinheiten. Dieses Werkzeug zeigt äußerst flexible Echtzeitprozessparameteranpassungssysteme mit der hohen Präzisionstemperatur und den Atmosphärensteuerungen. Das Substrat wird zur präzisen Resistbeschichtung auf dem Wafer auf eine vorgegebene Temperatur erhitzt. Das Vakuumfutter dient dazu, den Wafer bündig mit der Beschichtungsoptik zu halten. Dadurch wird die Beschichtungsvariante gemessen, so daß die Beschichtungsfolie gleichmäßig gehalten werden kann. Das Beschichtungsfluid wird dann aus einem Spinncoater aufgebracht und mit einem Hochgeschwindigkeits-Spin-Off-Rad auf gleichmäßige Dünnschichtdicke getrocknet. Die Anlage kann den Photolack mit hoher Präzision und Gleichmäßigkeit für eine Vielzahl von Waferdurchmessern und Dicke bis zu 80mm anwenden. Ein Post-Exposure-Backen-Verfahren folgt dem Photo-Masking-Prozess, um eine gute Haftung des Resist-Films auf dem Wafer zu fördern und auch Resistverzerrungen bei der Entwicklung und beim Ätzen zu minimieren. Der Photolack ist optisch so konzipiert, dass er eine höhere Empfindlichkeit bei niedriger Hintergrundbelichtungsdosis für die Photolithographie-Prozesse bietet. Der Wafer wird durch die Fotomaske mit TOKYO ELECTRON ACT12 Modell belichtet, um die gewünschten Merkmale freizulegen. Dies geschieht in Mikrosekunden-Zeitrahmen für kurze Belichtungsdauer und hochauflösende Strukturierung. Der Photolack wird dann in einem Entwickler entwickelt, um die nicht kompatiblen Teile des Wafers mit anschließendem Ätzen zu belichten. Die entwickelten Teile werden dann durch ein Spin-off-Rad entfernt. Der Resist wird dann üblicherweise mit Plasma-, Naß- oder Laserentfernungsmethoden zur genauen Strukturierung abgestreift. TEL ACT12 Photoresist-Geräte bieten eine hervorragende Photolithographie und Verarbeitungsgleichmäßigkeit, was zu einer verbesserten Ausbeute bei der Herstellung der LED-Geräte führt. Dieses System bietet zudem Flexibilität und präzise Steuerung in den Wafer-Musterprozessen und ist damit eine ideale Lösung für die Herstellung verschiedener Gerätetypen.