Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9164503 zu verkaufen
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ID: 9164503
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
DUV coater / developer, 8"
Dual block track for S204
Utilized with Nikon S204 Scanner Exposure Tool
iUSC SECSI, SECSII, HSMS, & GEM Interface Compatibility
4 Blocks Interfaced: Cassette-2 Process Blocks-Scanner Interface
4 Wafer Transfer Robot Arms: Cassette-2 Process Blocks-Scanner Interface
Control Module on Cassette End-Station (CES)
Interface Block:
Single-pincette shared wafer transfer with centering guides
Standard wafer arm and interface panel to accommodate stepper/scanner
Interface includes a CPL for insuring consistent wafer temps into the stepper/scanner
2 Coaters (COT):
4 resist nozzles with temperature control
16 layer resist and solvent filters
RRC Pumps
4L or 1L Nowpak capability
SS 0.3mm diameter side rinse nozzle with flow meter
2 SS 0.3mm diameter back rinse nozzles
4 Developers (DEV):
2 “H” nozzles with temperature control per cup
16 layer developer filter
Bulk-FSI system for developer
2 Adhesion Process Stations (ADH):
Half sealed chamber with dispersion plate for HMDS
6 Chill Plate Process Stations with temperature control (CPL)
1 Transfer Chill Plate (TCP)
8 Low Temperature Hot Plate Process Stations with temperature control (LHP)
4 Chilling Hot Plate Process Stations (CHP)
1 Wafer Edge Exposure Process Station (WEE)
DUV illumination monitor on lamp housing
Uses a 250W ultra pressure Mercury lamp with 5x4mm illumination pattern
Subcomponents:
Fluid Temperature Controller
Temperature & Humidity Controller - 2x
Chemical Cabinet
AC Power Box
2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für die zweidimensionale photolithographische Schaltungsstrukturierung verwendet wird. Das Photoresist-System umfasst eine Lichtquelle, eine Optik und ein Retikel, das bestimmte Bereiche eines Wafers bei der Herstellung integrierter Schaltungen abdeckt oder blockiert. Die für TEL ACT 12 verwendete Lichtquelle ist ein breites Spektrum von UV-Licht, das durch die Optik und dann auf das Retikel geleitet wird, wo die Schaltungsmuster gebildet werden. Das UV-Licht wirkt mit der chemischen Beschichtungsschicht auf dem Wafer zusammen, die dann bei der Herstellung verschiedener Arten von integrierten Schaltungen verwendet wird. Das optische Bauteil besteht aus mehreren Spiegeln, Linsen und Öffnungen. Die Spiegel leiten den Lichtstrahl in das Retikel und auf den Wafer, und die Linsen steuern die Konvergenz und Divergenz des Strahls. Die Öffnungen steuern die Größe und Form des Strahls sowie die Lichtmenge, die durchgelassen wird. Das Retikel ist der Kernbestandteil der Photolackeinheit und dient dazu, bestimmte Teile des Wafers von der Lichtquelle abzuschirmen. Sie ist so ausgebildet, dass sie bestimmte Bereiche des Wafers unter Blockierung anderer Bereiche effizient freilegen kann. Sobald der Wafer der Lichtquelle ausgesetzt ist, werden bestimmte Bereiche auf dem Wafer weggeätzt, was zu dem gewünschten Schaltungsmuster führt. TOKYO ELECTRON ACT12 Photoresist Machine ist eine Schlüsselkomponente bei der Herstellung integrierter Schaltungen. Es bietet eine zuverlässige und effiziente Methode zur Strukturierung des Wafers nach dem gewünschten Design, was zu hochwertigen und zuverlässigen Komponenten und Schaltungen führt. Das Werkzeug kann für eine Vielzahl von Schaltungskonstruktionen mit hoher Genauigkeit verwendet werden, was präzise und wiederholbare Ergebnisse bei der Herstellung integrierter Schaltungen ermöglicht.
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