Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9187391 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von TEL für Lithographie und Ätzen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es ist ein fortschrittliches Ionen-Hilfe-Elektronenstrahl (IAEB) Lithographiesystem, das entwickelt wurde, um hochpräzise Musterleistung und Ätzleistung für extrem winzige Schaltungsstrukturen bis unter 10 Nanometer zu liefern. Das Gerät verfügt über bahnbrechende Innovationen in einer Reihe von Bereichen, darunter einen hochempfindlichen Faraday-Ablenker der 7. Generation, eine verbesserte Strahlabbildung und Steuerung für Feinfokusanpassung und robuste hochauflösende Bildgebung sowie fortschrittliche optische Doppelstrahlelemente für nahtloses On-the-Fly-Umschalten zwischen Lithographie- und Ätzprozessen. Diese Kombination ermöglicht eine hochwertige Strukturierung, die sogar dreidimensionale Schaltungsstrukturen angehen kann. TEL ACT 12 bietet auch fortschrittliche Messtechnik-Systeme, um Prozessgleichförmigkeit über den gesamten Wafer zu gewährleisten. Dazu gehören hochauflösendes Mapping zur Bestimmung des Resist-Profils auf dem Wafer und hochpräzise Auswertung der Prozesseffekte. Darüber hinaus bietet die Maschine eine automatische physikalische Fehlerinspektion und Echtzeit-Überprüfung der Resisteigenschaften in verschiedenen Phasen des Prozesses. Die hochauflösenden bildgebenden und fortschrittlichen messtechnischen Systeme ermöglichen TOKYO ELECTRON ACT12 ein hohes Maß an Fehlermanagementgenauigkeit und Benutzerfreundlichkeit. Dies beinhaltet die Fehlerreduzierung auf der Front- und Back-End-Stufe des Prozesses sowie die Konsistenz von Schichtdicke und Linienbreite über den gesamten Wafer. Darüber hinaus ist das Werkzeug mit einer Reihe von Werkzeugen ausgestattet, um Belichtung und Dosierung, Strahlstrom, Ablenkung und Flugbahn zu optimieren und zu steuern sowie Faktoren wie Linienkantenrauhigkeit und kurze Hosen und Öffnungen zu kompensieren. Es verfügt außerdem über eine verbesserte Zuverlässigkeit mit reduzierten Ausfallzeiten und modernste parallele Verarbeitungsfunktionen für einen schnelleren Durchsatz. Insgesamt ist TEL ACT12 eine bahnbrechende Innovation in der photoresistischen Vermögensentwicklung und bietet eine ideale Plattform für die leistungsstärksten Lithographie- und Ätzprozesse in der Halbleiterindustrie. Seine modernen Funktionen, einfache Bedienung und hohe Präzision machen es zu einer leistungsstarken Modellauswahl.